華為技術有限公司林毅超獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉華為技術有限公司申請的專利電磁閥及可穿戴設備獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN118924270B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202310532060.7,技術領域涉及:A61B5/0235;該發明授權電磁閥及可穿戴設備是由林毅超;王攸華;陳致遠;李昌明;宮樂興;韓素琦設計研發完成,并于2023-05-11向國家知識產權局提交的專利申請。
本電磁閥及可穿戴設備在說明書摘要公布了:本申請實施例提供了一種電磁閥及可穿戴設備。該電磁閥包括殼體、電磁組件、閥芯組件和復位組件;電磁組件包括磁軛和線圈,磁軛上設置有第二介質流道和用于收容線圈的第一容納空間;電磁組件與殼體扣合形成用于收容閥芯組件和復位組件的容納腔;閥芯組件設置于電磁組件與殼體之間;復位組件設置于閥芯組件朝向電磁組件的一側和或背離電磁組件的一側。殼體和磁軛上分別設置有第一介質流道和第二介質流道,電磁組件和復位組件分別用于在線圈通電時和斷電時驅動閥芯組件運動,以使第一介質流道與第二介質流道連通或隔斷。上述技術方案能夠縮小電磁閥的體積,從而適應電子設備對于空間的要求,實現電子設備的小型化,還可以提高電磁閥的密封性。
本發明授權電磁閥及可穿戴設備在權利要求書中公布了:1.一種電磁閥,其特征在于,包括: 殼體,所述殼體為一體式結構,所述殼體上設置有第一凹槽和第一介質流道,所述第一介質流道的一個開口形成于所述第一凹槽的底壁或側壁; 電磁組件,包括磁軛和線圈,所述磁軛為一體式結構,所述磁軛上設置有相隔的第二介質流道和開口朝向所述第一凹槽的底壁的第一容納空間,所述線圈收容于所述第一容納空間中,所述電磁組件與所述殼體扣合形成容納腔,其中所述磁軛包括第一主體以及突出于所述第一主體表面設置的凸起,所述第一容納空間設置于所述凸起上,所述第二介質流道的一個開口形成于所述凸起朝向所述第一凹槽的底壁的面上,所述凸起收容于所述第一凹槽中,所述第一主體與所述殼體相連接; 閥芯組件,收容于所述容納腔中,所述閥芯組件設置于所述電磁組件與所述殼體之間; 復位組件,收容于所述容納腔中,所述復位組件設置于所述閥芯組件朝向所述電磁組件的一側和或所述閥芯組件背離所述電磁組件的一側; 其中,所述電磁組件用于在所述線圈通電時驅動所述閥芯組件運動,所述復位組件用于在所述線圈斷電時驅動所述閥芯組件運動,以使所述第一介質流道與所述第二介質流道連通或隔斷。
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