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龍圖騰網獲悉迅勢科技(蘇州)有限公司申請的專利一種用于壓力傳感器的壓力控制系統及方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119852199B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-02發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411930666.7，技術領域涉及：H01L21/66；該發明授權一種用于壓力傳感器的壓力控制系統及方法是由王瓊;張志軍設計研發完成，并于2024-12-26向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種用于壓力傳感器的壓力控制系統及方法在說明書摘要公布了：本發明涉及數據監測技術領域，是一種用于壓力傳感器的壓力控制系統及方法，具體方法包括：根據目標刻蝕槽型建立數字孿生模型，并對數字孿生模型進行刻蝕監測單位區域的劃分；實時采集待刻蝕半導體基板上各個刻蝕凹槽的刻蝕狀態數據，獲取各個凹槽深度層的刻蝕效率指數和刻蝕質量指數；根據刻蝕效率指數和刻蝕質量指數，動態篩選待調節的刻蝕監測單位區域，并控制壓力傳感器執行壓力控制策略；本發明解決了現有技術中，刻蝕精度不足和刻蝕效率低下的問題。

本發明授權一種用于壓力傳感器的壓力控制系統及方法在權利要求書中公布了：1.一種用于壓力傳感器的壓力控制方法，其特征在于，所述方法包括如下具體步驟： S1：識別待刻蝕半導體基板的刻蝕任務中的目標刻蝕槽型，根據所述目標刻蝕槽型建立數字孿生模型，并對數字孿生模型進行刻蝕監測單位區域的劃分； S2：開啟氟塑閥門，通過氟塑閥門內置的壓力傳感器，控制刻蝕氣體流入刻蝕反應室，并實時采集待刻蝕半導體基板上各個刻蝕凹槽的刻蝕狀態數據； S3：提取同一凹槽深度層上，每個橫向刻蝕監測單位區域組的刻蝕狀態數據，并將每個橫向刻蝕監測單位區域組的刻蝕狀態數據導入刻蝕效率核對策略中，獲取各個凹槽深度層的刻蝕效率指數； S4：通過電子掃描設備，獲取相鄰凹槽深度層中，每個縱向刻蝕監測單位區域組的刻蝕狀態數據，并將每個縱向刻蝕監測單位區域組的刻蝕狀態數據導入刻蝕質量核對策略中，計算各個相鄰凹槽深度層的刻蝕質量指數； 計算各個相鄰凹槽深度層的刻蝕質量指數，具體包括：zln,zln-1分別為第n個和第n-1個凹槽深度層的刻蝕質量指數，c′為第n個凹槽深度層中，個縱向刻蝕監測單位區域組中，與最接近的粗糙值； Cmax,Cmin分別為個縱向刻蝕監測單位區域組中，粗糙值的最大值和粗糙值的最小值； S5：根據刻蝕效率指數和刻蝕質量指數，動態篩選待調節的刻蝕監測單位區域，并控制壓力傳感器執行壓力控制策略； 其中，S5包括： S51：根據刻蝕效率指數和刻蝕質量指數，構建刻蝕達標函數Fn，Fn＝k1×xln+k2×zln，k1,k2分別為刻蝕效率指數和刻蝕質量指數的占比系數； S52：預設刻蝕達標基線，當監測到存在凹槽深度層的刻蝕達標值低于刻蝕達標基線時，動態篩選該凹槽深度層為待調節的刻蝕監測單位區域，同步提取該凹槽深度層的刻蝕效率指數和刻蝕質量指數； S53：預設刻蝕標準效率，當該凹槽深度層的刻蝕效率指數低于刻蝕標準效率時，控制刻蝕反應腔內刻蝕氣體流入噴嘴的方向； S54：預設刻蝕標準質量，當該凹槽深度層的刻蝕質量指數低于刻蝕標準質量時，控制氟塑閥門的閥門開度，增加刻蝕反應腔內刻蝕氣體的壓力。

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