琳得科株式會社小橋力也獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉琳得科株式會社申請的專利保護(hù)膜形成用片及其制造方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114075417B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202110735474.0，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C09J7/40；該發(fā)明授權(quán)保護(hù)膜形成用片及其制造方法是由小橋力也設(shè)計研發(fā)完成，并于2021-06-30向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本保護(hù)膜形成用片及其制造方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種即使在沖孔加工時的切口寬度較窄的情況下也能夠充分抑制廢料去除的不良的保護(hù)膜形成用片及其制造方法。該保護(hù)膜形成用片為長條片，并具有保護(hù)膜形成膜和設(shè)置在所述保護(hù)膜形成膜的一個面上的第一剝離膜，該保護(hù)膜形成用片的特征在于，于23℃用2kgf的載荷將兩片保護(hù)膜形成膜貼附2分鐘后的附著力為19N25mm以下。
本發(fā)明授權(quán)保護(hù)膜形成用片及其制造方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種保護(hù)膜形成用片，其為長條片，并具有固化性的保護(hù)膜形成膜和設(shè)置在所述保護(hù)膜形成膜的一個面上的第一剝離膜，其中， 于23℃用2kgf的載荷將兩片保護(hù)膜形成膜貼附2分鐘后的附著力為19N25mm以下。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人琳得科株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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1、本報告根據(jù)公開、合法渠道獲得相關(guān)數(shù)據(jù)和信息，力求客觀、公正，但并不保證數(shù)據(jù)的最終完整性和準(zhǔn)確性。
2、報告中的分析和結(jié)論僅反映本公司于發(fā)布本報告當(dāng)日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔(dān)任何法律責(zé)任的依據(jù)或者憑證。
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