中鈔特種防偽科技有限公司;中國印鈔造幣集團有限公司崔海波獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中鈔特種防偽科技有限公司;中國印鈔造幣集團有限公司申請的專利光學防偽元件和光學防偽產品獲國家發(fā)明授權專利權,本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN117485047B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉:該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為:202210880425.0,技術領域涉及:B42D25/324;該發(fā)明授權光學防偽元件和光學防偽產品是由崔海波;張寶利設計研發(fā)完成,并于2022-07-25向國家知識產權局提交的專利申請。
本光學防偽元件和光學防偽產品在說明書摘要公布了:本發(fā)明提供了一種光學防偽元件和光學防偽產品。光學防偽元件包括:基材,微浮雕結構,微浮雕結構設置在基材的一側表面上,微浮雕結構具有凸起和凹槽,凹槽的具有大深寬比,凹槽的寬度大于等于1微米;鍍層結構,鍍層結構設置在微浮雕結構遠離基材的一側,鍍層結構在凸起處的厚度與鍍層結構在凹槽處的厚度不同,以使凸起處的光學特征和凹槽處的光學特征不同;其中,凹槽的大深寬比是指凹槽的深度與凹槽的寬度的比值大于等于0.5。本發(fā)明解決了現(xiàn)有技術中光學防偽元件存在生產成本大、制作效率低的問題。
本發(fā)明授權光學防偽元件和光學防偽產品在權利要求書中公布了:1.一種光學防偽元件,其特征在于,包括: 基材(10), 微浮雕結構(20),所述微浮雕結構(20)設置在所述基材(10)的一側表面上,所述微浮雕結構(20)具有凸起(21)和凹槽(22),所述凹槽(22)的具有大深寬比,所述凹槽(22)的寬度大于等于1微米; 鍍層結構(30),所述鍍層結構(30)設置在所述微浮雕結構(20)遠離所述基材(10)的一側,所述鍍層結構(30)在所述凸起(21)處的厚度與所述鍍層結構(30)在所述凹槽(22)處的厚度不同,以使所述凸起(21)處的光學特征和所述凹槽(22)處的光學特征不同; 其中,所述凹槽(22)的大深寬比是指所述凹槽(22)的深度與所述凹槽(22)的寬度的比值大于等于0.5; 所述鍍層結構(30)在所述凸起(21)處的厚度大于所述鍍層結構(30)在所述凹槽(22)處的厚度; 其中,所述凸起(21)處的厚度是指所述凸起(21)頂面的厚度,所述鍍層結構(30)采用蒸鍍工藝形成。
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