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龍圖騰網(wǎng)獲悉東莞華南設(shè)計創(chuàng)新院申請的專利一種用于預(yù)浸料抓取的真空吸盤排布優(yōu)化方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115203855B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202210886334.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06F30/17；該發(fā)明授權(quán)一種用于預(yù)浸料抓取的真空吸盤排布優(yōu)化方法是由高航;王一奇;鄒建軍;侯曉峰設(shè)計研發(fā)完成，并于2022-07-26向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種用于預(yù)浸料抓取的真空吸盤排布優(yōu)化方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供了一種用于預(yù)浸料抓取的真空吸盤排布優(yōu)化方法，包括以下步驟：預(yù)設(shè)預(yù)浸料的尺寸參數(shù)、真空吸盤的數(shù)量及真空吸盤的初始排布方式；以預(yù)浸料在被真空吸盤抓取過程中產(chǎn)生的最大懸垂變形量w為目標函數(shù)，以相鄰真空吸盤的間距L1、L2和最外側(cè)真空吸盤與預(yù)浸料邊緣的邊距L3、L4為自變量，建立真空吸盤抓取點位排布的優(yōu)化數(shù)學模型；通過Matlab軟件對目標函數(shù)進行多目標線性有約束優(yōu)化，以預(yù)浸料在被真空吸盤抓取過程中產(chǎn)生的最大懸垂變形量w最小為優(yōu)化目標，得到真空吸盤在預(yù)浸料上的抓取點位排布。本發(fā)明可以快速得到真空吸盤在預(yù)浸料上的最優(yōu)抓取點位，提高真空吸盤抓取預(yù)浸料的穩(wěn)定性，有效提高生產(chǎn)效率和成型質(zhì)量，降低生產(chǎn)成本。

本發(fā)明授權(quán)一種用于預(yù)浸料抓取的真空吸盤排布優(yōu)化方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于預(yù)浸料抓取的真空吸盤排布優(yōu)化方法，其特征在于，包括以下步驟： 步驟S1，預(yù)設(shè)預(yù)浸料的尺寸參數(shù)、真空吸盤的數(shù)量及真空吸盤的初始排布方式； 步驟S2，以預(yù)浸料在被真空吸盤抓取過程中產(chǎn)生的最大懸垂變形量w為目標函數(shù)，以相鄰真空吸盤的間距L1、L2和最外側(cè)真空吸盤與預(yù)浸料邊緣的邊距L3、L4為自變量，建立公式（1）所示的真空吸盤抓取點位排布的優(yōu)化數(shù)學模型： （1） 其中，E是預(yù)浸料的彈性模量，I是截面的慣性矩，q是預(yù)浸料在自重作用下受到的豎直向下的均布載荷，a是預(yù)浸料的長度，b是預(yù)浸料的寬度，m、n分別是預(yù)浸料在長度和寬度方向上的真空吸盤數(shù)量，L1、L2分別是相鄰真空吸盤在長度和寬度方向上的間距，L3、L4分別是最外側(cè)真空吸盤與預(yù)浸料長度和寬度邊緣的邊距； 步驟S3，通過Matlab軟件對目標函數(shù)進行多目標線性有約束優(yōu)化，以預(yù)浸料在被真空吸盤抓取過程中產(chǎn)生的最大懸垂變形量w最小為優(yōu)化目標，得到真空吸盤在預(yù)浸料上的抓取點位排布。

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