長(zhǎng)春長(zhǎng)光圓辰微電子技術(shù)有限公司劉佳晶獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉長(zhǎng)春長(zhǎng)光圓辰微電子技術(shù)有限公司申請(qǐng)的專利一種石英常溫鍵合方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN115376966B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202210949095.6,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01L21/67;該發(fā)明授權(quán)一種石英常溫鍵合方法是由劉佳晶;陳濤;王宣歡;孫萱;方小磊設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2022-08-09向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本一種石英常溫鍵合方法在說明書摘要公布了:本發(fā)明提供一種石英常溫鍵合方法,包括:S100,清洗石英片表面;S200,將兩個(gè)石英片進(jìn)行二氧化硅沉積,在石英片表面生成二氧化硅鍵合膜;S300,對(duì)二氧化硅鍵合膜進(jìn)行化學(xué)機(jī)械研磨;S400,使用氫氟酸溶液清洗石英片;S500,使兩個(gè)石英片的二氧化硅鍵合膜相互接觸并通過鍵合機(jī)鍵合石英片。本方案能夠在常溫下高可靠性地實(shí)現(xiàn)石英和石英的鍵合。
本發(fā)明授權(quán)一種石英常溫鍵合方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種石英常溫鍵合方法,其特征在于,包括: S100、使用SC1溶液清洗石英片表面; S200、使用化學(xué)氣相沉積法,將兩個(gè)所述石英片進(jìn)行二氧化硅沉積,在所述石英片表面生成二氧化硅鍵合膜;所述二氧化硅生成源為正硅酸乙酯;生成的二氧化硅鍵合膜厚度為1微米-3微米,防止后續(xù)工藝中二氧化硅鍵合膜被完全去掉; S300、對(duì)所述二氧化硅鍵合膜進(jìn)行化學(xué)機(jī)械研磨;經(jīng)過所述S300處理后的所述二氧化硅鍵合膜,輪廓算術(shù)平均偏差Ra小于1納米,均方根粗糙度Rq小于1.5納米; S400、使用氫氟酸溶液清洗所述石英片,將氫氟酸溶液清洗后的石英片進(jìn)行甩干;所述氫氟酸溶液的濃度為2%-5%; S500、使兩個(gè)所述石英片的所述二氧化硅鍵合膜相互接觸并通過鍵合機(jī)鍵合所述石英片;包括如下子步驟: S501、兩個(gè)所述石英片首先依次進(jìn)入等離子腔體,表面激活等離子體; S502、所述石英片進(jìn)入清洗腔體內(nèi)部,進(jìn)行表面親水處理; S503、對(duì)上方的所述石英片施加壓力使兩個(gè)所述石英片發(fā)生鍵合; 在常溫常壓下能夠?qū)崿F(xiàn)石英和石英的鍵合,不會(huì)損害石英界面光學(xué)性能。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人長(zhǎng)春長(zhǎng)光圓辰微電子技術(shù)有限公司,其通訊地址為:130000 吉林省長(zhǎng)春市經(jīng)開區(qū)營(yíng)口路18號(hào);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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