上海精測半導體技術有限公司陳煜杰獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉上海精測半導體技術有限公司申請的專利光聲測量系統獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115388787B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202210976185.4,技術領域涉及:G01B11/06;該發明授權光聲測量系統是由陳煜杰;董詩浩;李仲禹設計研發完成,并于2022-08-15向國家知識產權局提交的專利申請。
本光聲測量系統在說明書摘要公布了:本發明提供了一種光聲測量系統。該光聲測量系統通過激發光照射在待測物表面形成聲波,聲波使待測物表面產生形變,同時通過探測光照射在待測物表面得到探測光的反射光線即信號光,由于聲波在待測物內運動并反彈至待測物的表面后形成變形區域會對信號光產生影響,使得探測器采集的信號產生變化,進而能夠依據采集的信號進行膜厚的計算。通過采集延遲器的位移臺的位置對信號光的時間進行反饋,通過控制模塊對探測器采集的光功率數據以及位移臺的位置數據進行處理,之后根據位移臺的位置確定聲波的運動時長,并對待測物的膜厚進行計算,能夠得到準確率較高的結果,有效避開了現有技術中各方面誤差對計算準確度的影響。
本發明授權光聲測量系統在權利要求書中公布了:1.一種光聲測量系統,其特征在于,包括光源、延遲器、位移傳感器、探測器和控制模塊; 所述光源用于產生探測光和激發光,所述激發光用于在待測物中形成聲波,所述聲波經所述待測物中的界面回傳至所述待測物表面產生形變區域,所述探測光用于照射至所述待測物表面的所述形變區域后形成信號光; 所述延遲器包括位移臺和若干反射組件,所述若干反射組件用于多次反射所述探測光,所述位移臺用于帶動所述反射組件線性移動以調整所述探測光的總光程,所述探測光的總光程包括所述延遲器調控的可變光程及探測光路中的固定段光程; 所述探測器以第一頻率采集所述信號光的光功率; 所述位移傳感器以第二頻率實時采集所述位移臺的位置; 所述控制模塊,對采集到的所述信號光的光功率和或所述位移臺的位置進行數據處理,以使相同時間內所述信號光的光功率的數據量和所述位移臺的位置的數據量比值為0.9至1.1,并基于經所述數據處理后的信號光的光功率數據和位移臺的位置數據獲取所述待測物的膜厚; 所述基于經所述數據處理后的信號光的光功率數據和位移臺的位置數據獲取所述待測物的膜厚,包括:基于經所述數據處理后的信號光的光功率數據和位移臺的位置數據; 獲取所述信號光的光功率的數據的峰位及所述峰位對應的光功率數據采集時序點; 在所述位移臺的位置數據中,獲取所述峰位的時序點下對應的所述位移臺的數據匹配點F以及位置數值P F; 獲取所述位移臺位于數據匹配點F時所述探測光與所述激發光到達所述待測物表面時的光程差OPD F; 基于所述光程差OPD F ,獲取所述待測物的膜厚。
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