北京京儀自動化裝備技術股份有限公司寧騰飛獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉北京京儀自動化裝備技術股份有限公司申請的專利用于半導體廢氣處理設備的反應腔和半導體廢氣處理設備獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116510476B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211143960.4，技術領域涉及：B01D53/50；該發明授權用于半導體廢氣處理設備的反應腔和半導體廢氣處理設備是由寧騰飛設計研發完成，并于2022-09-20向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于半導體廢氣處理設備的反應腔和半導體廢氣處理設備在說明書摘要公布了：本申請提供一種用于半導體廢氣處理設備的反應腔和半導體廢氣處理設備，反應腔包括：反應腔本體，呈圓筒狀，半導體制程產生的廢氣生成于反應腔本體內；均水環，呈陣列狀、沿反應腔本體的周向設置于反應腔本體的內壁頂部，均水環用于對進入反應腔本體的溢流水進行均水處理，使得溢流水均勻地覆蓋反應腔本體的整個內壁；均水環的設置高度為：h≥h水＝Q進水量s水冷壁底面積；其中，Q進水量為進水量，s水冷壁底面積為水冷壁的底面積，h水為水冷壁的高度。本申請的反應腔增高了冷卻水壁的高度，并采用均水環進行梳齒，降低水壁表面的自由能，使溢流水進入反應腔的過程中更加均勻。這種設置狀態可以降低溢流不均勻的隨機性不利影響。
本發明授權用于半導體廢氣處理設備的反應腔和半導體廢氣處理設備在權利要求書中公布了：1.一種用于半導體廢氣處理的反應腔，其特征在于，包括： 反應腔本體，呈圓筒狀，半導體制程產生的廢氣生成于所述反應腔本體內； 均水環，呈陣列狀、沿所述反應腔本體的周向設置于所述反應腔本體的內壁頂部，所述均水環用于對進入所述反應腔本體的溢流水進行均水處理，使得溢流水均勻地覆蓋所述反應腔本體的整個內壁； 所述均水環的設置高度為： h≥h水； h水＝Q進水量s水冷壁底面積； 其中，Q進水量為溢流水的進水量，s水冷壁底面積為溢流水形成的水冷壁的底面積，h水為溢流水形成的水冷壁的高度。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人北京京儀自動化裝備技術股份有限公司，其通訊地址為：100176 北京市大興區經濟技術開發區涼水河二街8號院14號樓A座；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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