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龍圖騰網獲悉西北工業大學申請的專利一種測量雙層納米金屬薄膜厚度二維分布的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115523852B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211232389.3，技術領域涉及：G01B11/06；該發明授權一種測量雙層納米金屬薄膜厚度二維分布的方法是由趙建林;米婧宇;張繼巍;豆嘉真設計研發完成，并于2022-10-10向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種測量雙層納米金屬薄膜厚度二維分布的方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種測量雙層納米金屬薄膜厚度二維分布的方法。通過建立兩種表面等離子體共振模型，利用二次曝光數字全息干涉術探測兩種共振模型對應的反射光波相位差，并結合菲涅耳公式理論計算兩種共振模型對應的反射相移差曲面，獲取以兩種金屬薄膜厚度為變量的兩條單調曲線，提取曲線交點坐標值，可實現雙層納米金屬薄膜厚度二維分布的高靈敏度精確測量。

本發明授權一種測量雙層納米金屬薄膜厚度二維分布的方法在權利要求書中公布了：1.一種測量雙層納米金屬薄膜厚度二維分布的方法，其特征在于步驟如下： 步驟1：構建由電介質層1、厚度為d1的金屬層1、厚度為d2的金屬層2、電介質層2組成的四層Kretschmann表面等離子體共振激發結構，利用表面等離子體共振的波矢匹配條件，計算當電介質層2分別為折射率為n1的液體1和折射率為n2的液體2時，激發表面等離子體共振所需的激發光波入射角θ1和θ2；當光波入射角為θ1時，利用菲涅耳公式分別計算電介質層2為液體1、空氣時入射光波經激發結構多層膜系反射后的反射相移，二者作差得反射相移差φ1n1,d1,d2，給定d1、d2的變化范圍，得到φ1隨d1、d2變化的共振曲面Φ1φ1,d1,d2；同理，計算光波入射角為θ2時液體2對應的反射相移差曲面Φ2φ2,d1,d2； 步驟2：搭建基于Kretschmann結構的表面等離子體共振全息顯微成像測量系統，令激發光波入射角為θ1，當電介質層2為液體1時記錄反射光波作為物光波與參考光波干涉形成的數字全息圖H1，將電介質層2更換為空氣，記錄數字全息圖H2； 步驟3：調整測量系統中的激發光波入射角為θ2，令電介質層2為液體2，利用與步驟2相同方法記錄數字全息圖H3和數字全息圖H4； 步驟4：利用光波衍射原理計算出四張數字全息圖的相位分布1-4，相位分布2減去相位分布1得到相位差分布相位分布4減去相位分布3得到相位差分布 x,y代表二維空間坐標； 步驟5：反射相移差φ1x,y在數值上與實驗測得的反射光波相位差相等，φ2x,y與相等，根據實驗測得的與對應理論計算的共振曲面Φ1φ1,d1,d2、共振曲面Φ2φ2,d1,d2，在以d1、d2為變量的坐標系中投影出兩條單調變化的共振曲線，曲線的唯一交點對應的兩個厚度值即為待測的d1x,y與待測的d2x,y，即金屬層1與金屬層2的二維厚度分布。

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