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龍圖騰網獲悉上海艾普強粒子設備有限公司申請的專利一種混合型粒子掃描照射方法及系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116299626B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211711539.9，技術領域涉及：G01T1/02；該發明授權一種混合型粒子掃描照射方法及系統是由李永江;張瀟;馬曉穎;李乾楠;楊凡;陳志凌設計研發完成，并于2022-12-29向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種混合型粒子掃描照射方法及系統在說明書摘要公布了：本申請公開了一種混合型粒子掃描照射方法及系統，涉及高速粒子束流實驗技術領域，混合型粒子掃描照射方法包括以下步驟：獲取目標介質區域信息、目標介質總劑量信息以及掃描判定模型，基于所述目標介質區域信息，對目標介質區域劃分子區域，基于所述目標介質總當量信息，對各個所述子區域分配劑量，在對子區域進行區分判斷，若是連續掃描子區域，則適用連續掃描模式，若是點掃描子區域，適用于點掃描模式，點掃描與連續掃描結合的方式，有效減少了開關束流的次數，從而減少了關斷束流時的泄漏劑量，提高了實驗結果的準確性，也保證了整個目標介質區域的均勻照射。

本發明授權一種混合型粒子掃描照射方法及系統在權利要求書中公布了：1.一種混合型粒子掃描照射方法，其特征在于，包括以下步驟： 獲取目標介質區域信息、目標介質總劑量信息以及掃描判定模型； 基于所述目標介質區域信息，對目標介質區域劃分子區域； 基于所述目標介質總當量信息，對各個所述子區域分配劑量； P1、對當前子區域照射設定劑量的粒子束流，基于設定掃描判定模型判斷下一子區域分配劑量是否為連續掃描子區域1，是進入P2，否進入P3，當所有子區域照射完畢，結束循環； P2、保持粒子發射狀態將粒子照射頭移動到下一子區域，并返回P1； P3、關斷粒子束流，將粒子照射頭移動到下一子區域，打開粒子束流，并返回P1； 基于掃描判定模型判斷下一子區域分配劑量是否為連續掃描子區域1包括： 基于所述子區域是否擁有完整的上下左右相鄰區域將所述子區域劃分為中心子區域以及邊緣子區域； 當所述下一子區域為中心子區域時，所述下一子區域為連續掃描子區域1； 獲取所述邊緣子區域所分配劑量； 當所述邊緣子區域所分配劑量大于連續掃描判定劑量，則所述邊緣子區域為連續掃描子區域1； 當所述邊緣子區域所分配劑量小于連續掃描判定劑量，則所述邊緣子區域為點掃描子區域2。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人上海艾普強粒子設備有限公司，其通訊地址為：201800 上海市嘉定區嘉定工業區葉城路1411號2幢一層A區；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。