華中農業大學江洪獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉華中農業大學申請的專利含羰基炔結構的AIE分子、AIE分子修飾的配合物及其應用獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN116874363B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202310710065.4,技術領域涉及:C07C49/84;該發明授權含羰基炔結構的AIE分子、AIE分子修飾的配合物及其應用是由江洪;徐祖輝;向宗耀設計研發完成,并于2023-06-14向國家知識產權局提交的專利申請。
本含羰基炔結構的AIE分子、AIE分子修飾的配合物及其應用在說明書摘要公布了:本發明公開了一種含羰基炔結構的AIE分子、AIE分子修飾的配合物及其應用;AIE分子修飾的抗生素配合物既可直接用于抑菌,對耐甲氧西林金黃色葡萄球菌和李斯特菌抑制效果比未改性的原抗生素分子抑菌效果更強;該AIE分子修飾的配合物也可用作對細菌的光動力殺菌劑和用于快速檢測病原菌。同時AIE分子修飾的噬菌體配合物與并將磁珠與抗生素偶聯物聯用,實現對病原菌的檢測。通過將不同濃度的抗生素分子分別與含羰基炔結構的AIE分子反應,然后加入定量的細菌及磁珠偶聯的噬菌體,磁分離后,建立抗生素濃度與熒光強度之間的線性方程,即可實現對抗生素殘留的檢測。
本發明授權含羰基炔結構的AIE分子、AIE分子修飾的配合物及其應用在權利要求書中公布了:1.一種含羰基炔結構的AIE分子的配合物,其特征在于:所述配合物由含羰基炔結構的AIE分子修飾得到,其結構式為: 其中,R1為: 中任意一種; R2為-O-R3或-NH-R3, 或,-S-Phage或-NH-Phage; R3為抗生素分子殘基,Phage為噬菌體。
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