廣州安達凈水材料有限公司石宗武獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉廣州安達凈水材料有限公司申請的專利一種去離子清洗劑及其在電子電路產品領域中去除污染物的應用獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116855316B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310734181.X，技術領域涉及：C11D1/66；該發明授權一種去離子清洗劑及其在電子電路產品領域中去除污染物的應用是由石宗武;曾丹丹;周健設計研發完成，并于2023-06-20向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種去離子清洗劑及其在電子電路產品領域中去除污染物的應用在說明書摘要公布了：本發明公開了一種去離子清洗劑及其在電子電路產品領域中去除污染物的應用，涉及化學防污領域。清洗劑包括以下質量分數的組分：有機堿：1wt％?10wt％；滲透劑：1wt％?5wt％；添加劑：1wt％?8wt％；水：余量；添加劑為3?甲基丁酸、二丙二醇甲醚醋酸酯、乙二醇乙醚醋酸酯中的至少一種。本申請水基清洗劑采用有機堿搭配潤濕性和滲透性強的滲透劑，可以在清洗過程中能有效清除PCB制作過程中殘留的腐蝕性“酸性離子”，同時其具有較強的滲透能力，可以滲透進入細至3mil的微孔區域徹底清洗，有效清除指印、油脂、離子等污染物，滿足高質量產品的清洗要求。
本發明授權一種去離子清洗劑及其在電子電路產品領域中去除污染物的應用在權利要求書中公布了：1.一種水基去離子清洗劑，其特征在于，包括以下質量分數的組分： 有機堿：1wt%-10wt%； 滲透劑：1wt%-5wt%； 添加劑：1wt%-8wt%； 水：余量； 其中，所述有機堿為質量比為5：4的乙二胺和異丙醇胺；所述添加劑為質量比為1：2的3-甲基丁酸和二丙二醇甲醚醋酸酯，所述滲透劑為烷基糖苷。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人廣州安達凈水材料有限公司，其通訊地址為：510897 廣東省廣州市花都區花東鎮北興港頭工業區33號201；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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