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龍圖騰網獲悉江蘇首芯半導體科技有限公司申請的專利反應腔體結構及沉積設備獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN118957545B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411362112.1，技術領域涉及：C23C16/505；該發明授權反應腔體結構及沉積設備是由李繼剛;張國偉;王彬;周緯;朱順利設計研發完成，并于2024-09-27向國家知識產權局提交的專利申請。

本反應腔體結構及沉積設備在說明書摘要公布了：本公開實施例涉及半導體制造領域，提供一種反應腔體結構及沉積設備，反應腔體結構包括反應腔本體、進氣機構、抽氣口、可移動載臺、固化機構和控制器。反應腔包括豎直方向上相連通的沉積腔和固化腔，可移動載臺在反應腔內可沿豎直方向上下移動，以使晶圓被置于沉積腔內以在晶圓表面沉積膜層，或者使晶圓被置于固化腔內。固化機構位于固化腔內，固化機構用于，在晶圓被置于固化腔內期間為膜層提供固化能量，以將膜層轉換為目標材料層。控制器與可移動載臺以及固化機構連接，用于控制可移動載臺在豎直方向上移動，還用于控制固化機構為膜層提供固化能量。本公開實施例至少可以提高制備目標材料層的效率和可靠性。

本發明授權反應腔體結構及沉積設備在權利要求書中公布了：1.一種反應腔體結構，應用于沉積設備，其特征在于，包括： 反應腔本體，所述反應腔本體內包括反應腔，所述反應腔包括豎直方向上相連通的沉積腔和固化腔，沉積腔在水平面的正投影與固化腔在水平面的正投影重合，或者，沉積腔在水平面的正投影位于固化腔在水平面的正投影內； 進氣機構，所述進氣機構設置于所述反應腔頂部，所述進氣機構具有進氣孔以及與所述進氣孔相連通的進氣通道，所述進氣通道與所述反應腔相連通，所述進氣孔用于連通提供氣體的進氣管； 抽氣口，所述抽氣口與所述反應腔相連通； 可移動載臺，所述可移動載臺用于承載晶圓，且所述可移動載臺在所述反應腔內可沿所述豎直方向上下移動，以使所述晶圓被置于所述沉積腔內以在所述晶圓表面沉積膜層，或者使所述晶圓被置于所述固化腔內，可移動載臺在沉積腔和固化腔交替移動，使晶圓交替置于沉積腔或固化腔中； 光源固化機構，所述光源固化機構位于所述固化腔內，并周向立設于固化腔側壁，所述光源固化機構用于，在所述晶圓被置于所述固化腔內期間提供光束為所述膜層提供固化能量，以將所述膜層轉換為目標材料層； 控制器，所述控制器與所述可移動載臺以及所述固化機構連接，用于控制所述可移動載臺在所述豎直方向上移動，以使所述晶圓被置于所述沉積腔內以在所述晶圓表面沉積膜層，還用于在沉積所述膜層后控制所述可移動載臺在所述豎直方向上移動，以使所述晶圓被置于所述固化腔內，且控制所述光源固化機構為所述膜層提供固化能量； 擋板，背離進氣機構的一面為反射面，在沉積膜層期間，擋板擋住沉積腔與固化腔的通路，在固化膜層期間，反射面反射光束。

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