杭州中為光電技術(shù)有限公司;浙江晶盛機電股份有限公司;浙江晶瑞電子材料有限公司張遵浩獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉杭州中為光電技術(shù)有限公司;浙江晶盛機電股份有限公司;浙江晶瑞電子材料有限公司申請的專利晶圓拋光研磨下片緩存裝置及下片方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN120326524B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-29發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202510798159.0,技術(shù)領(lǐng)域涉及:B24B37/34;該發(fā)明授權(quán)晶圓拋光研磨下片緩存裝置及下片方法是由張遵浩;張杭軍;張廣犬;林衛(wèi)國;謝龍輝;張爭爭;李運偉;曹震;曾淘;嚴順康設計研發(fā)完成,并于2025-06-13向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本晶圓拋光研磨下片緩存裝置及下片方法在說明書摘要公布了:本申請公開了一種晶圓拋光研磨下片緩存裝置及下片方法,涉及半導體制造技術(shù)領(lǐng)域,晶圓拋光研磨下片緩存裝置包括水槽、多個固定支架和多個運動支架。水槽頂部開口且四周和底部封閉。固定支架固定于水槽底部并沿著水槽底部間隔設置,每個固定支架能夠容納至少一片晶圓。運動支架和固定支架交替設置,且每個運動支架能夠容納至少一片晶圓;運動支架沿水槽高度方向可升降設置。當需要放置晶圓時,運動支架上升,對應晶圓能夠同時放置于運動支架和固定支架上,且運動支架和固定支架上的晶圓相互平行。通過上述設置,本申請實現(xiàn)了單次放置多片晶圓進行緩存的技術(shù)效果,提高了下片效率的同時也減少了機械手的占用時間。
本發(fā)明授權(quán)晶圓拋光研磨下片緩存裝置及下片方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種晶圓拋光研磨下片緩存裝置,其特征在于,包括: 水槽(100),頂部開口且四周和底部封閉; 多個固定支架(200),固定于水槽(100)底部并沿著水槽(100)底部間隔設置,每個所述固定支架(200)能夠容納至少一片晶圓;以及 多個運動支架(300),和所述固定支架(200)交替設置,且每個所述運動支架(300)能夠容納至少一片晶圓; 所述運動支架(300)沿水槽(100)高度方向可升降設置; 當需要放置晶圓時,一個固定支架(200)和毗鄰一個運動支架(300)視為一組結(jié)構(gòu),機械手單次搬運晶圓放置于其中一組結(jié)構(gòu)上進行存儲,晶圓數(shù)量為3片或者4片;所述運動支架(300)上升,對應晶圓能夠同時放置于運動支架(300)和固定支架(200)上,且運動支架(300)和固定支架(200)上的晶圓相互平行。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人杭州中為光電技術(shù)有限公司;浙江晶盛機電股份有限公司;浙江晶瑞電子材料有限公司,其通訊地址為:311103 浙江省杭州市臨平區(qū)余杭經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)順達路500號1幢201室;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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