東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社濱康孝獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社申請(qǐng)的專利基板處理方法和基板處理系統(tǒng)獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN113192832B 。
龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202110089464.4,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01L21/3065;該發(fā)明授權(quán)基板處理方法和基板處理系統(tǒng)是由濱康孝;新藤信明;米田滋設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2021-01-22向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本基板處理方法和基板處理系統(tǒng)在說(shuō)明書摘要公布了:本發(fā)明涉及一種基板處理方法和基板處理系統(tǒng),能夠適當(dāng)?shù)貙?duì)離子體處理后的基板進(jìn)行除電處理。該基板處理方法用于對(duì)基板進(jìn)行處理,包括以下工序:工序a,將所述基板載置在靜電吸盤上,并對(duì)所述靜電吸盤施加直流電壓,由此使所述基板吸附于所述靜電吸盤;工序b,對(duì)電極供給高頻電力,并利用非活性氣體來(lái)生成等離子體;工序c,停止對(duì)所述靜電吸盤施加所述直流電壓;以及工序d,使被供給到所述電極的所述高頻電力逐漸降低,并使該高頻電力為0W。
本發(fā)明授權(quán)基板處理方法和基板處理系統(tǒng)在權(quán)利要求書中公布了:1.一種基板處理方法,用于對(duì)基板進(jìn)行處理,所述基板處理方法包括以下工序: 工序a,將所述基板載置在靜電吸盤上,并對(duì)所述靜電吸盤施加直流電壓,由此使所述基板吸附于所述靜電吸盤; 工序b,對(duì)電極供給高頻電力,并利用非活性氣體來(lái)生成等離子體; 工序c,停止對(duì)所述靜電吸盤施加所述直流電壓; 工序d,使被供給到所述電極的所述高頻電力逐漸降低,并使該高頻電力為0W, 在所述工序c與所述工序d之間還包括工序e,在該工序e中,使所述基板上升來(lái)使所述基板離開所述靜電吸盤。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社,其通訊地址為:日本東京都;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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