上海類比半導(dǎo)體技術(shù)有限公司顏志豪獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉上海類比半導(dǎo)體技術(shù)有限公司申請(qǐng)的專利一種傳輸門電路的版圖及其設(shè)計(jì)方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN115034166B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202210736935.0,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G06F30/36;該發(fā)明授權(quán)一種傳輸門電路的版圖及其設(shè)計(jì)方法是由顏志豪;張俊;張澤飛;王建;吳永一設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2022-06-27向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本一種傳輸門電路的版圖及其設(shè)計(jì)方法在說明書摘要公布了:本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種傳輸門電路的版圖及其設(shè)計(jì)方法,其中,該方法包括:將多個(gè)PMOS管沿第一方向并排放置,多個(gè)NMOS管與多個(gè)PMOS管一一對(duì)應(yīng)且并排放置于多個(gè)PMOS管下方。每個(gè)PMOS管的源極和對(duì)應(yīng)設(shè)置于其下方的NMOS管的源極連接,每個(gè)PMOS管的漏極和對(duì)應(yīng)設(shè)置于其下方的NMOS管的漏極連接。每個(gè)PMOS管的柵極和對(duì)應(yīng)設(shè)置于其下方的NMOS管的柵極均與不同的控制信號(hào)線連接。將每個(gè)PMOS管的源極相連接并沿第一方向布置第一信號(hào)線,將每個(gè)NMOS管的漏極相連接并沿第一方向布置第二信號(hào)線。將多個(gè)NMOS管的P型襯底與地線連接,地線呈封閉對(duì)稱布置。本申請(qǐng)?zhí)峁┑陌鎴D設(shè)計(jì)方法使第一信號(hào)線和第二信號(hào)線分別對(duì)地線產(chǎn)生的寄生電容達(dá)到匹配,減小了寄生電容對(duì)電路性能的影響。
本發(fā)明授權(quán)一種傳輸門電路的版圖及其設(shè)計(jì)方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種傳輸門電路的版圖設(shè)計(jì)方法,其特征在于,所述方法包括: 將多個(gè)PMOS管沿第一方向并排放置,多個(gè)NMOS管與所述多個(gè)PMOS管一一對(duì)應(yīng)且并排放置于所述多個(gè)PMOS管下方; 每個(gè)所述PMOS管的源極和對(duì)應(yīng)設(shè)置于其下方的所述NMOS管的源極連接,每個(gè)所述PMOS管的漏極和對(duì)應(yīng)設(shè)置于其下方的所述NMOS管的漏極連接,每個(gè)所述PMOS管的柵極和對(duì)應(yīng)設(shè)置于其下方的所述NMOS管的柵極均與不同的控制信號(hào)線連接; 將每個(gè)所述PMOS管的所述源極相連接并沿第一方向布置第一信號(hào)線; 將每個(gè)所述NMOS管的所述漏極相連接并沿所述第一方向布置第二信號(hào)線; 將所述多個(gè)NMOS管的P型襯底與地線連接,所述地線呈封閉對(duì)稱布置,并將所述第一信號(hào)線和所述第二信號(hào)線相對(duì)于所述地線對(duì)稱分布,使得所述第一信號(hào)線和所述第二信號(hào)線分別到所述地線的距離相等。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人上海類比半導(dǎo)體技術(shù)有限公司,其通訊地址為:201203 上海市浦東新區(qū)張江高科達(dá)爾文路88號(hào)3幢5樓;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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