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龍圖騰網(wǎng)獲悉之江實(shí)驗(yàn)室;浙江大學(xué)申請(qǐng)的專利光學(xué)各向同性晶體的濕法輔助-飛秒激光加工納米孔方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115747969B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202211399789.3，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C30B33/00；該發(fā)明授權(quán)光學(xué)各向同性晶體的濕法輔助-飛秒激光加工納米孔方法是由陳智;鐘理京;王宇瑩;楊弈;許貝貝;劉小峰;譚德志;馬志軍;邱建榮設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-11-09向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本光學(xué)各向同性晶體的濕法輔助-飛秒激光加工納米孔方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明公開(kāi)了一種光學(xué)各向同性晶體的濕法輔助?飛秒激光加工納米孔方法。在目標(biāo)加工物的光學(xué)各向同性晶體上通過(guò)光學(xué)接觸放置一塊更厚光學(xué)各向同性晶體作為球差增強(qiáng)輔助物，飛秒激光透射經(jīng)過(guò)球差增強(qiáng)輔助物后入射并聚焦到目標(biāo)加工物內(nèi)產(chǎn)生自聚焦拉絲效應(yīng)，而誘導(dǎo)材料局域改性成納米拉絲誘導(dǎo)區(qū)域；再用特定酸性溶液濕法刻蝕，使納米拉絲誘導(dǎo)區(qū)域被刻蝕形成孔徑可控、高深?徑比的納米孔。本發(fā)明可對(duì)任意光學(xué)各向同性晶體內(nèi)部三維空間進(jìn)行誘導(dǎo)加工，還可調(diào)節(jié)制備高深?徑比的納米孔結(jié)構(gòu)，克服了傳統(tǒng)方法只能在材料表面加工低深?徑比的納米孔結(jié)構(gòu)缺點(diǎn)，制備更小尺寸、均一、可控的納米孔結(jié)構(gòu)，具有高效、穩(wěn)定、低廉的三維空間可控的納米加工特點(diǎn)。

本發(fā)明授權(quán)光學(xué)各向同性晶體的濕法輔助-飛秒激光加工納米孔方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種光學(xué)各向同性晶體的濕法輔助-飛秒激光加工納米孔方法，其特征在于，方法針對(duì)所需加工的一塊光學(xué)各向同性晶體作為目標(biāo)加工物，具體包括以下過(guò)程： 首先在目標(biāo)加工物的一側(cè)上光學(xué)接觸放置比目標(biāo)加工物厚度更厚的另一塊光學(xué)各向同性晶體作為球差增強(qiáng)輔助物，施加從球差增強(qiáng)輔助物到目標(biāo)加工物方向的飛秒激光透射經(jīng)過(guò)球差增強(qiáng)輔助物后入射并聚焦到目標(biāo)加工物的內(nèi)部，進(jìn)而在目標(biāo)加工物的光學(xué)各向同性晶體內(nèi)部自聚焦拉絲誘導(dǎo)材料局域改性而形成納米拉絲誘導(dǎo)區(qū)域，所述飛秒激光采用不同曝光脈沖個(gè)數(shù)； 然后將目標(biāo)加工物采用酸性溶液濕法刻蝕，使得納米拉絲誘導(dǎo)區(qū)域被刻蝕形成孔徑可控、高深-徑比的納米孔。

如需購(gòu)買(mǎi)、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人之江實(shí)驗(yàn)室;浙江大學(xué)，其通訊地址為：311121 浙江省杭州市余杭區(qū)之江實(shí)驗(yàn)室南湖總部；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。