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龍圖騰網獲悉同濟大學申請的專利一種基于標記點過程的撞擊坑提取后處理方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116503476B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310367311.0，技術領域涉及：G06T7/73；該發明授權一種基于標記點過程的撞擊坑提取后處理方法是由謝歡;王亞瓊;黃潛;晏雄鋒;劉世杰;葉真;王超;許雄;柳思聰;金雁敏;童小華設計研發完成，并于2023-04-07向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種基于標記點過程的撞擊坑提取后處理方法在說明書摘要公布了：本發明涉及一種基于標記點過程的撞擊坑提取后處理方法，該方法包括以下步驟：步驟S1、根據撞擊坑在影像中的紋理以及幾何特征，建立Gibbs能量模型；通過撞擊坑之間的拓撲性質建立模型的先驗項，利用撞擊坑邊緣在一定光照條件下的相位大小以及相位方向構建針對撞擊坑邊緣的局部相位加權的相位方向密度函數，并基于相位方向密度函數構建模型的似然項；步驟S2、利用可逆跳轉馬爾科夫蒙特卡洛算法和模擬退火算法對Gibbs能量模型進行優化求解，得到優化后的撞擊坑圖像。與現有技術相比，本發明的方法能有效地剔除誤提取撞擊坑并優化候選撞擊坑的位置和大小。

本發明授權一種基于標記點過程的撞擊坑提取后處理方法在權利要求書中公布了：1.一種基于標記點過程的撞擊坑提取后處理方法，其特征在于，該方法包括以下步驟： 步驟S1、根據撞擊坑在影像中的紋理以及幾何特征，建立Gibbs能量模型；通過撞擊坑之間的拓撲性質建立所述能量模型的先驗項，利用撞擊坑邊緣在一定光照條件下的相位大小以及相位方向構建針對撞擊坑邊緣的局部相位加權的相位方向密度函數，并基于相位方向密度函數構建所述能量模型的似然項； 步驟S2、利用可逆跳轉馬爾科夫蒙特卡洛算法和模擬退火算法對Gibbs能量模型進行優化求解，得到優化后的撞擊坑圖像； 所述步驟S1中的Gibbs能量模型： 其中，Z為歸一化常數；UDCi和UpCi分別代表數據似然約束因子和先驗約束因子； 對于每個候選撞擊坑，定義以Cixi,yi∈Csam為圓心，Ri∈Rsam為半徑的采樣實例，其中，Csam和Rsam分別代表每個撞擊坑位置和大小的采樣空間；對于每個候選撞擊坑，有K個樣本，k∈[1,k]，其中，K表示總采樣次數； 對于每個樣本Csam ki，利用局部相位幅度Axi和方位θxi，計算局部相位大小約束的相位方向密度函數： 其中，ξ·是一個均勻核，Axi,yi為局部相位幅度，ξθxi,yi為局部相位。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人同濟大學，其通訊地址為：200092 上海市楊浦區四平路1239號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。