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龍圖騰網(wǎng)獲悉大連理工大學(xué)申請(qǐng)的專(zhuān)利一種基于透光輔材的超薄晶片光電催化輔助CMP加工裝置及制備方法、加工方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN116690332B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：202310428569.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：B24B7/22；該發(fā)明授權(quán)一種基于透光輔材的超薄晶片光電催化輔助CMP加工裝置及制備方法、加工方法是由高尚;康仁科;郭星晨;董志剛;朱祥龍?jiān)O(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2023-04-20向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本一種基于透光輔材的超薄晶片光電催化輔助CMP加工裝置及制備方法、加工方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明提供一種基于透光輔材的超薄晶片光電催化輔助CMP加工裝置及制備方法、加工方法。本發(fā)明包括機(jī)體、光源和拋光頭，機(jī)體包括機(jī)座、機(jī)架、旋轉(zhuǎn)軸、拋光盤(pán)、拋光墊和拋光載荷施加裝置，拋光頭包括連軸套、導(dǎo)電滑環(huán)、固定架、基板、導(dǎo)電極以及導(dǎo)電玻璃，拋光頭上設(shè)置有拋光液緩沖槽和均勻分布的弧形通孔，加工過(guò)程中，拋光液先后通過(guò)拋光頭上的拋光液緩沖槽、弧形通孔以及導(dǎo)電玻璃上面的孔洞，最后在導(dǎo)電玻璃和拋光盤(pán)間形成一定厚度的溶液層，導(dǎo)電玻璃表面沉積覆蓋一層窄禁帶光電催化半導(dǎo)體復(fù)合材料薄膜，用于持續(xù)產(chǎn)生羥基自由基。本發(fā)明光電催化效率高，光能吸收率優(yōu)良，適用性范圍廣，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，成本較低，可實(shí)現(xiàn)高質(zhì)高效加工。

本發(fā)明授權(quán)一種基于透光輔材的超薄晶片光電催化輔助CMP加工裝置及制備方法、加工方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種基于透光輔材的超薄晶片光電催化輔助CMP加工裝置，其特征在于，包括機(jī)體、光源和拋光頭，所述光源設(shè)置于機(jī)體上， 所述機(jī)體包括機(jī)座、機(jī)架、旋轉(zhuǎn)軸、拋光盤(pán)、拋光墊和拋光載荷施加裝置，所述拋光載荷施加裝置通過(guò)所述機(jī)架安裝在機(jī)座上，所述拋光載荷施加裝置的輸出端設(shè)置所述旋轉(zhuǎn)軸，所述拋光墊和拋光盤(pán)粘連，所述拋光盤(pán)安裝在機(jī)座上； 拋光頭包括連軸套、導(dǎo)電滑環(huán)、固定架、基板、導(dǎo)電極以及導(dǎo)電玻璃，拋光頭和所述旋轉(zhuǎn)軸間通過(guò)所述連軸套固連，連軸套與固定架相連，導(dǎo)電滑環(huán)安裝在固定架上，導(dǎo)電滑環(huán)用于將電源與導(dǎo)電極相連，工件固定在導(dǎo)電玻璃上，基板用于支撐超薄晶片，所述固定架、基板和導(dǎo)電玻璃均采用預(yù)設(shè)透光率的材質(zhì)； 拋光頭上設(shè)置有拋光液緩沖槽和均勻分布的弧形通孔，加工過(guò)程中，拋光液先后通過(guò)拋光頭上的拋光液緩沖槽、弧形通孔以及導(dǎo)電玻璃上面的孔洞，最后在導(dǎo)電玻璃和拋光盤(pán)間形成一定厚度的溶液層，溶液層、導(dǎo)電玻璃和導(dǎo)電陰極構(gòu)成電解反應(yīng)器，所述導(dǎo)電玻璃表面沉積覆蓋一層窄禁帶光電催化半導(dǎo)體復(fù)合材料薄膜，用于持續(xù)產(chǎn)生羥基自由基。

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