西南大學;深圳森豐真空鍍膜有限公司李鳳吉獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉西南大學;深圳森豐真空鍍膜有限公司申請的專利一種可減弱藍光的透明硬質涂層及制備工藝獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN117721428B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202311783087.X，技術領域涉及：C23C14/35；該發明授權一種可減弱藍光的透明硬質涂層及制備工藝是由李鳳吉;白瑞珊;哈斯巴根;陸科宇;張存修;趙明華;汪達文設計研發完成，并于2023-12-22向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種可減弱藍光的透明硬質涂層及制備工藝在說明書摘要公布了：本發明涉及表面涂層技術領域，具體公開了一種可減弱藍光的透明硬質涂層及制備工藝，采用反應磁控濺射技術，在基底表面沉積單層結構的透明硬質涂層，利用元素摻雜與薄膜干涉原理，能夠實現良好的減弱藍光透過率的效果，操作簡單，制備得到的涂層具有高的硬度，提高了涂層的耐磨性，同時，通過調控磁控濺射的工藝參數，能夠精確調整SiN和AlN之比，進而調整涂層對不同波長藍光及其余可見光的透過率，可控性強，尤其降低了短波段有害藍光的透過率，保護視力，而長波段的有益藍光則能夠更多的穿透涂層，并且對其余可見光具有良好的透過率，有利于顯色的清晰度和真實性。
本發明授權一種可減弱藍光的透明硬質涂層及制備工藝在權利要求書中公布了：1.一種可減弱藍光的透明硬質涂層的制備工藝，其特征在于，包括以下制備步驟：將基底置于磁控濺射系統的腔室中，抽真空后通入氬氣和氮氣，開啟鋁靶和硅靶的電源進行共沉積，制備得到透明硬質涂層，其中，所述鋁靶的射頻濺射功率為280-320W，所述硅靶的直流濺射功率為28-55W，所述氬氣的流量為20-60sccm，所述氮氣的流量為3-10sccm，濺射的時間為50～100min。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人西南大學;深圳森豐真空鍍膜有限公司，其通訊地址為：400715 重慶市北碚區天生路2號西南大學；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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