中國(guó)礦業(yè)大學(xué)劉兵獲國(guó)家專(zhuān)利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉中國(guó)礦業(yè)大學(xué)申請(qǐng)的專(zhuān)利基于原型記憶引導(dǎo)的自監(jiān)督工業(yè)缺陷檢測(cè)方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN118196051B 。
龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為:202410354812.X,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G06T7/00;該發(fā)明授權(quán)基于原型記憶引導(dǎo)的自監(jiān)督工業(yè)缺陷檢測(cè)方法是由劉兵;史偉峰;劉明明;劉鵬設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2024-03-27向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。
本基于原型記憶引導(dǎo)的自監(jiān)督工業(yè)缺陷檢測(cè)方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了:本發(fā)明公開(kāi)了基于原型記憶引導(dǎo)的自監(jiān)督工業(yè)缺陷檢測(cè)方法,涉及工業(yè)缺陷檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,包括基于顯著性檢測(cè)網(wǎng)絡(luò)獲得輸入圖像O的前景掩膜F,利用柏林噪聲器生成輸入圖像O的隨機(jī)噪聲P,利用前景掩膜F將隨機(jī)噪聲P約束在前景區(qū)域獲得掩膜圖像M,利用掩膜圖像M和分布外圖像A合成缺陷圖像S;利用教師?學(xué)生網(wǎng)絡(luò)提取輸入圖像O和缺陷圖像S的特征,并獲取特征之間逐像素相似度Fts。利用原型記憶機(jī)制增強(qiáng)模型對(duì)邏輯缺陷與正常圖像差異性的判別能力,提高模型對(duì)邏輯缺陷的檢測(cè)性能,針對(duì)傳統(tǒng)教師?學(xué)生網(wǎng)絡(luò)中出現(xiàn)的過(guò)檢測(cè)問(wèn)題,使用顯著性檢測(cè)網(wǎng)絡(luò)和柏林噪聲合成缺陷圖像,提升合成圖像與真實(shí)缺陷圖像的分布一致性。
本發(fā)明授權(quán)基于原型記憶引導(dǎo)的自監(jiān)督工業(yè)缺陷檢測(cè)方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了:1.基于原型記憶引導(dǎo)的自監(jiān)督工業(yè)缺陷檢測(cè)方法,其特征在于,包括: 步驟S100,基于顯著性檢測(cè)網(wǎng)絡(luò)獲得輸入圖像O的前景掩膜F,利用柏林噪聲器生成輸入圖像O的隨機(jī)噪聲P,利用前景掩膜F將隨機(jī)噪聲P約束在前景區(qū)域獲得掩膜圖像M,利用掩膜圖像M和分布外圖像A合成缺陷圖像S; 步驟S200,利用教師-學(xué)生網(wǎng)絡(luò)提取輸入圖像O和缺陷圖像S的特征,并獲取特征之間逐像素相似度Fts; 步驟S300,基于平均記憶模塊AMM提取輸入圖像O的原型特征,計(jì)算原型特征與缺陷特征的逐像素相似度向量Fmt; 步驟S400,對(duì)逐像素相似度Fts和Fmt進(jìn)行多尺度判別后通過(guò)FocalLoss和L1Loss損失函數(shù)共同進(jìn)行優(yōu)化; 步驟S200中將合成的缺陷圖像S輸入學(xué)生網(wǎng)絡(luò),并將合成的缺陷圖像S所對(duì)應(yīng)的輸入圖像O輸入教師網(wǎng)絡(luò),所述學(xué)生網(wǎng)絡(luò)通過(guò)余弦相似度匹配教師網(wǎng)絡(luò)提取的輸入圖像O的特征,對(duì)所述特征進(jìn)行重建,并對(duì)缺陷特征進(jìn)行修復(fù),其中: , , 其中,表示教師網(wǎng)絡(luò)提取的第i層特征,表示學(xué)生網(wǎng)絡(luò)提取的第i層特征,h∈[1,Hi],w∈[1,Wi],Hi表示第i層特征的高度,Wi表示第i層特征的寬度,i∈[1,3],Ci表示通道數(shù),表示沿通道維度計(jì)算余弦相似度獲得的二維缺陷分?jǐn)?shù)圖,Lcos表示優(yōu)化學(xué)生網(wǎng)絡(luò)的損失函數(shù); 步驟S400中優(yōu)化的具體過(guò)程為: 教師-學(xué)生網(wǎng)絡(luò)通過(guò)分割網(wǎng)絡(luò)對(duì)Fts進(jìn)行多尺度判別; 分割網(wǎng)絡(luò)包括殘差塊、空洞空間金字塔池化模塊和分割頭,最終通過(guò)FocalLoss和L1Loss損失函數(shù)共同進(jìn)行優(yōu)化,將分割網(wǎng)絡(luò)的輸出記為P1,缺陷掩膜Mask通過(guò)雙線(xiàn)性插值上采樣到與P1同一尺度,其數(shù)學(xué)表達(dá)式為: , , , , 其中,,,H1表示分割結(jié)果P1的高度,W1表示分割結(jié)果P1的寬度,表示分割結(jié)果P1的一個(gè)像素值,表示FocalLoss的計(jì)算結(jié)果,表示L1Loss的計(jì)算結(jié)果,表示教師-學(xué)生分割網(wǎng)絡(luò)的優(yōu)化損失,表示控制聚焦系數(shù)的超參數(shù),和表示損失權(quán)重超參數(shù)。
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