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龍圖騰網(wǎng)獲悉重慶芯聯(lián)微電子有限公司申請(qǐng)的專(zhuān)利晶圓預(yù)清洗裝置獲國(guó)家實(shí)用新型專(zhuān)利權(quán)，本實(shí)用新型專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN223273219U 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的實(shí)用新型授權(quán)公告中獲悉：該實(shí)用新型的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：202422230033.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/67；該實(shí)用新型晶圓預(yù)清洗裝置是由黃耀賢;黃俊憲設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2024-09-11向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本晶圓預(yù)清洗裝置在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本實(shí)用新型提供一種晶圓預(yù)清洗裝置，通過(guò)在反應(yīng)腔室外設(shè)置遠(yuǎn)程等離子體源，反應(yīng)腔室內(nèi)設(shè)置有屏蔽罩，屏蔽罩外表面上形成有污染顆粒，屏蔽罩內(nèi)設(shè)置有氣體管道，遠(yuǎn)程等離子體源和屏蔽罩內(nèi)的氣體管道連通，遠(yuǎn)程等離子體源用于產(chǎn)生清潔氣體等離子體，氣體管道用于傳輸清潔氣體等離子體，氣體管道將遠(yuǎn)程等離子體源產(chǎn)生的清潔氣體等離子體傳輸至屏蔽罩外表面以清潔屏蔽罩外表面的污染顆粒，避免污染顆粒脫落至晶圓上，提高了晶圓的良率；以及本實(shí)用新型中的清潔氣體等離子體直接對(duì)屏蔽罩外表面的污染顆粒進(jìn)行清潔，無(wú)需將反應(yīng)腔室打開(kāi)，避免了在反應(yīng)腔室內(nèi)引入外界污染，且本實(shí)用新型中清潔時(shí)間遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于現(xiàn)有技術(shù)中的維護(hù)時(shí)間，提高了生產(chǎn)率。

本實(shí)用新型晶圓預(yù)清洗裝置在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種晶圓預(yù)清洗裝置，其特征在于，包括反應(yīng)腔室和遠(yuǎn)程等離子體源，所述反應(yīng)腔室內(nèi)設(shè)置有屏蔽罩，所述屏蔽罩外表面上形成有污染顆粒，所述屏蔽罩內(nèi)設(shè)置有氣體管道，所述遠(yuǎn)程等離子體源和所述屏蔽罩內(nèi)的氣體管道連通，所述遠(yuǎn)程等離子體源用于產(chǎn)生清潔氣體等離子體，所述氣體管道用于傳輸所述清潔氣體等離子體，所述氣體管道將所述遠(yuǎn)程等離子體源產(chǎn)生的所述清潔氣體等離子體傳輸至所述屏蔽罩外表面以清潔所述屏蔽罩外表面的所述污染顆粒。

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