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龍圖騰網(wǎng)獲悉中國(guó)科學(xué)院近代物理研究所申請(qǐng)的專利基于強(qiáng)流粒子加速器進(jìn)行同位素生產(chǎn)的靶裝置獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN118945972B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202411270236.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H05H6/00；該發(fā)明授權(quán)基于強(qiáng)流粒子加速器進(jìn)行同位素生產(chǎn)的靶裝置是由何源;牛海華;蔡漢杰;賈歡;李小波;秦元帥;宋時(shí)雨;趙紅衛(wèi)設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2024-09-11向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本基于強(qiáng)流粒子加速器進(jìn)行同位素生產(chǎn)的靶裝置在說(shuō)明書摘要公布了：本發(fā)明涉及同位素生產(chǎn)設(shè)備的技術(shù)領(lǐng)域，提供一種基于強(qiáng)流粒子加速器進(jìn)行同位素生產(chǎn)的靶裝置，包括：靶室及靶組件；靶室具有內(nèi)腔且用于迎向束流的一面設(shè)置有多個(gè)呈陣列排布的束孔，束孔上覆蓋有靶窗；靶組件包括靶框；靶框與靶窗一一對(duì)應(yīng)布置，且在束孔的軸向上，靶框內(nèi)設(shè)置有用于安裝靶膠囊的至少一個(gè)安裝位；靶框的兩側(cè)設(shè)有開(kāi)口，沿預(yù)設(shè)方向排布的多個(gè)靶框?yàn)橐唤M，同組中靶框的側(cè)部開(kāi)口對(duì)應(yīng)并與靶室的內(nèi)壁圍成獨(dú)立的冷卻液流道，每個(gè)靶膠囊沿束孔軸向的兩側(cè)均空出有間隙用于供冷卻液流過(guò)；靶室的兩側(cè)分別設(shè)置有對(duì)應(yīng)多條冷卻液流道的多個(gè)進(jìn)水孔和出水孔。如此設(shè)置，能夠有效降低高束流強(qiáng)度下靶材的溫升，實(shí)現(xiàn)毫安量級(jí)以上束流強(qiáng)度下的同位素生產(chǎn)。

本發(fā)明授權(quán)基于強(qiáng)流粒子加速器進(jìn)行同位素生產(chǎn)的靶裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基于強(qiáng)流粒子加速器進(jìn)行同位素生產(chǎn)的靶裝置，其特征在于，包括：靶室1及靶組件2； 所述靶室1具有內(nèi)腔且用于迎向束流的一面設(shè)置有多個(gè)呈陣列排布的束孔111，所述束孔111上覆蓋有靶窗17； 所述靶組件2包括靶框24；所述靶框24與所述靶窗17一一對(duì)應(yīng)布置，且在所述束孔111的軸向上，所述靶框24內(nèi)設(shè)置有用于安裝靶膠囊25的至少一個(gè)安裝位； 所述靶框24的兩側(cè)設(shè)有開(kāi)口，沿預(yù)設(shè)方向排布的多個(gè)所述靶框24為一組，同組中所述靶框24的側(cè)部開(kāi)口對(duì)應(yīng)并與所述靶室1的內(nèi)壁圍成獨(dú)立的冷卻液流道，每個(gè)所述靶膠囊25沿所述束孔111軸向的兩側(cè)均空出有間隙用于供冷卻液流過(guò)；所述靶室1的兩側(cè)分別設(shè)置有對(duì)應(yīng)多條所述冷卻液流道的多個(gè)進(jìn)水孔161和出水孔151； 多條所述冷卻液流道沿第一方向延伸并沿第二方向排布，所述第一方向垂直于所述第二方向；排布于所述第一方向上的多個(gè)所述靶框24為一組并位于同一所述冷卻液流道的延伸路徑上； 所述靶室1沿所述第二方向的一側(cè)設(shè)置有多個(gè)安裝孔131，多個(gè)所述安裝孔131沿所述第一方向排布；所述靶組件2設(shè)置有多個(gè)，并且，每個(gè)所述靶組件2包括沿所述第二方向依次連接的多個(gè)所述靶框24，所述靶組件2與所述安裝孔131插接密封； 所述靶組件2還包括密封座21，位于端部的所述靶框24與所述密封座21固定連接；在靠近所述靶框24的方向上，所述密封座21的截面漸縮；所述安裝孔131由所述靶室1的腔內(nèi)至腔外的方向開(kāi)口漸擴(kuò)。

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