株式會社國際電氣齊藤擇彌獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉株式會社國際電氣申請的專利基板冷卻單元、基板處理裝置、半導體器件的制造方法、記錄介質及基板處理方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113966547B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080042909.7，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權基板冷卻單元、基板處理裝置、半導體器件的制造方法、記錄介質及基板處理方法是由齊藤擇彌;高橋哲;檜山真設計研發完成，并于2020-09-04向國家知識產權局提交的專利申請。
本基板冷卻單元、基板處理裝置、半導體器件的制造方法、記錄介質及基板處理方法在說明書摘要公布了：提供一種技術，具備：基板保持機構，其水平地保持基板；驅動部，其使基板保持機構升降；冷卻板，其具有與基板的面相對的相對面；激光射出部，其設在基板升降的空間的側方的一端，射出在基板保持機構升降的方向具有寬度地分布、且與基板的面平行的激光；激光受光部，其設在空間的側方的另一端，獲取受光位置確定信息，其中該受光位置確定信息表示基板保持機構升降的方向上的、接受從激光射出部射出的激光的位置；和計算部，其基于在激光受光部中獲取到的受光位置確定信息，計算出冷卻板與基板之間的距離。
本發明授權基板冷卻單元、基板處理裝置、半導體器件的制造方法、記錄介質及基板處理方法在權利要求書中公布了：1.一種基板冷卻單元，具備： 基板保持機構，其水平地保持基板； 驅動部，其使所述基板保持機構升降； 冷卻板，其具有與由所述基板保持機構保持的所述基板的面相對的相對面，且在內部設有供制冷劑流動的制冷劑流路； 激光射出部，其設在由所述基板保持機構保持的所述基板升降的空間的側方的一端，射出在所述基板保持機構升降的方向具有寬度地分布、且與由所述基板保持機構保持的所述基板的面平行的激光； 激光受光部，其設在所述空間的側方的另一端，獲取受光位置確定信息，其中該受光位置確定信息表示所述基板保持機構升降的方向上的、接受從所述激光射出部射出的激光的位置；和 計算部，其基于在所述激光受光部中獲取到的所述受光位置確定信息，計算出所述冷卻板的所述相對面與由所述基板保持機構保持的所述基板的相對于所述冷卻板的相對面之間的距離。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人株式會社國際電氣，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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