ASML荷蘭有限公司F·斯塔爾斯獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉ASML荷蘭有限公司申請的專利用于推斷諸如焦距的處理參數(shù)的方法和相關(guān)聯(lián)裝置和制造方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN114616523B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202080075093.8,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G03F7/20;該發(fā)明授權(quán)用于推斷諸如焦距的處理參數(shù)的方法和相關(guān)聯(lián)裝置和制造方法是由F·斯塔爾斯設(shè)計研發(fā)完成,并于2020-09-07向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本用于推斷諸如焦距的處理參數(shù)的方法和相關(guān)聯(lián)裝置和制造方法在說明書摘要公布了:公開了一種推斷光刻工藝的第一處理參數(shù)的值的方法,第一處理參數(shù)受制于第二處理參數(shù)的耦合相關(guān)性。方法包括根據(jù)測量數(shù)據(jù)確定第一度量和第二度量,第一度量和第二度量中的每一者取決于第一處理參數(shù)和第二處理參數(shù)兩者。第一度量表示與第二處理參數(shù)相比對第一處理參數(shù)更強(qiáng)的相關(guān)性,并且第二度量表示與第一處理參數(shù)相比對第二處理參數(shù)更強(qiáng)的相關(guān)性。根據(jù)所述第一度量和第二度量推斷第一處理參數(shù)的值。
本發(fā)明授權(quán)用于推斷諸如焦距的處理參數(shù)的方法和相關(guān)聯(lián)裝置和制造方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種推斷光刻工藝的第一處理參數(shù)的值和第二處理參數(shù)的值的方法,所述方法包括: 根據(jù)測量數(shù)據(jù)確定第一度量和第二度量,所述測量數(shù)據(jù)與襯底上的使用所述光刻工藝形成的至少一個結(jié)構(gòu)有關(guān),所述第一度量和第二度量中的每一者取決于所述第一處理參數(shù)和所述第二處理參數(shù)兩者,所述第一度量對所述第一處理參數(shù)的相關(guān)性與所述第一度量對所述第二處理參數(shù)的相關(guān)性不同,并且所述第二度量對所述第二處理參數(shù)的相關(guān)性與所述第二度量對所述第一處理參數(shù)的相關(guān)性不同;以及 根據(jù)所述第一度量和第二度量推斷所述第一處理參數(shù)的所述值和所述第二處理參數(shù)的所述值, 其中推斷步驟包括參考校準(zhǔn)關(guān)系,所述校準(zhǔn)關(guān)系描述了針對所述第一處理參數(shù)和所述第二處理參數(shù)的不同值的、所述第一度量與所述第二度量的關(guān)系。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人ASML荷蘭有限公司,其通訊地址為:荷蘭維德霍溫;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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