東京毅力科創株式會社小佐井一樹獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉東京毅力科創株式會社申請的專利基板處理裝置和基板處理方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN112786485B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202011147776.8,技術領域涉及:H01L21/67;該發明授權基板處理裝置和基板處理方法是由小佐井一樹;篠原和義設計研發完成,并于2020-10-23向國家知識產權局提交的專利申請。
本基板處理裝置和基板處理方法在說明書摘要公布了:本發明提供一種基板處理裝置和基板處理方法。提供一種能夠抑制在對基板處理部進行了清洗處理之后液處理的性能惡化的技術。本公開的一形態的基板處理裝置具備基板處理部、排液部以及控制部。基板處理部從處理液供給部向所載置的基板供給處理液而進行液處理。排液部具有與積存處理液的積存部連接的回收路徑,對液處理使用后的處理液進行排液。控制部執行液處理的處理制程以及清洗基板處理部和排液部的清洗制程。另外,作為清洗制程,控制部在執行了從清洗液供給部供給清洗液而清洗基板處理部和排液部的清洗動作之后,執行從處理液供給部供給處理液而將附著于基板處理部和排液部的清洗液置換成處理液的恢復動作。
本發明授權基板處理裝置和基板處理方法在權利要求書中公布了:1.一種基板處理裝置,其中, 該基板處理裝置具備: 基板處理部,其從處理液供給部向所載置的基板供給處理液而進行液處理; 排液部,其具有與積存所述處理液的積存部連接的回收路徑,對所述液處理使用后的所述處理液進行排液;以及 控制部,其執行所述液處理的處理制程以及清洗所述基板處理部和所述排液部的清洗制程, 作為所述清洗制程,所述控制部在執行了從清洗液供給部供給清洗液而清洗所述基板處理部和所述排液部的清洗動作之后,執行從所述處理液供給部供給所述處理液而將附著于所述基板處理部和所述排液部的所述清洗液置換成所述處理液的恢復動作, 所述排液部在與所述基板處理部連接的排液路徑具有檢測所述處理液的濃度的濃度傳感器,所述排液路徑經由所述濃度傳感器與切換閥連接,所述切換閥能夠將在所述排液路徑中流動的排液的排出路徑在所述回收路徑和使所述處理液向外部排出的排放部之間進行切換,所述控制部在執行所述清洗制程的期間使向所述排液部流動的排液從所述排放部向外部排出,并且基于由所述濃度傳感器檢測的所述處理液的濃度將所述切換閥從所述排放部切換為所述回收路徑,從而結束所述恢復動作。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人東京毅力科創株式會社,其通訊地址為:日本東京都;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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