日東電工株式會社有賀草平獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉日東電工株式會社申請的專利相位差膜的制造方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN113524742B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202110306311.0，技術(shù)領(lǐng)域涉及：B29D11/00；該發(fā)明授權(quán)相位差膜的制造方法是由有賀草平設(shè)計研發(fā)完成，并于2021-03-23向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本相位差膜的制造方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供具有優(yōu)異的外觀和優(yōu)異的相位差顯現(xiàn)性的相位差膜的制造方法。本發(fā)明的相位差膜的制造方法具有對樹脂膜進(jìn)行加熱而得到中間膜的第一工序和對該中間膜實(shí)施拉伸處理的第二工序。
本發(fā)明授權(quán)相位差膜的制造方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種相位差膜的制造方法，其包括樹脂膜的制作工序、對樹脂膜進(jìn)行加熱而得到中間膜的第一工序以及對該中間膜實(shí)施拉伸處理的第二工序， 所述中間膜相對于加熱前的所述樹脂膜的Re550的增加為0nm以上且10nm以下，其中，Re550是以23℃下的波長為550nm的光測得的面內(nèi)相位差， 在所述第一工序與所述第二工序之間還包括所述中間膜的卷取工序。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人日東電工株式會社，其通訊地址為：日本大阪；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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1、本報告根據(jù)公開、合法渠道獲得相關(guān)數(shù)據(jù)和信息，力求客觀、公正，但并不保證數(shù)據(jù)的最終完整性和準(zhǔn)確性。
2、報告中的分析和結(jié)論僅反映本公司于發(fā)布本報告當(dāng)日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔(dān)任何法律責(zé)任的依據(jù)或者憑證。
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