買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標(biāo)用IPTOP,全免費(fèi)！專利年費(fèi)監(jiān)控用IP管家,真方便！

龍圖騰網(wǎng)獲悉常州億晶光電科技有限公司申請的專利硅片刻蝕裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN113161266B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202110423573.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/67；該發(fā)明授權(quán)硅片刻蝕裝置是由吳佳俊設(shè)計研發(fā)完成，并于2021-04-20向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本硅片刻蝕裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及硅片生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種硅片刻蝕裝置，包括用于對硅片單面噴射介質(zhì)的噴淋裝置、用于對硅片進(jìn)行支撐的支撐機(jī)構(gòu)和用于限制硅片位移范圍的第一限位機(jī)構(gòu)，所述支撐機(jī)構(gòu)位于噴淋機(jī)構(gòu)和第一限位機(jī)構(gòu)之間，當(dāng)硅片放置在支撐機(jī)構(gòu)上時，所述硅片與第一限制機(jī)構(gòu)之間具有間隙，當(dāng)所述噴淋裝置對硅片單面噴射介質(zhì)時，使用時，通過將硅片放置在支撐機(jī)構(gòu)上進(jìn)行支撐，而噴淋機(jī)構(gòu)對硅片的單面進(jìn)行噴淋介質(zhì)，在介質(zhì)的作用力下硅片懸浮并與限位機(jī)構(gòu)接觸，限位機(jī)構(gòu)限制了硅片在支撐機(jī)構(gòu)和限位機(jī)構(gòu)之間的位移范圍，由原有的浸泡改為噴淋，不會出現(xiàn)硅片由于介質(zhì)波動而翻越至硅片另一面的現(xiàn)象，保證了硅片生產(chǎn)穩(wěn)定可。

本發(fā)明授權(quán)硅片刻蝕裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種硅片刻蝕裝置，其特征在于：包括用于對硅片（8）單面噴射介質(zhì)的噴淋裝置、用于對硅片（8）進(jìn)行支撐的支撐機(jī)構(gòu)和用于限制硅片（8）位移范圍的第一限位機(jī)構(gòu)，所述支撐機(jī)構(gòu)位于噴淋裝置和第一限位機(jī)構(gòu)之間，當(dāng)所述噴淋裝置對硅片（8）單面噴射介質(zhì)時，所述硅片（8）在介質(zhì)的作用力下懸浮并脫離支撐機(jī)構(gòu)，同時硅片（8）與第一限位機(jī)構(gòu)接觸并限制硅片（8）位移； 所述第一限位機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在硅片（8）上方的芯軸（3）； 所述第一限位機(jī)構(gòu)還包括浮動壓輪（4），所述浮動壓輪（4）上設(shè)置有安裝孔（401），所述安裝孔（401）的孔徑大于芯軸（3）的直徑，所述芯軸（3）穿過安裝孔（401），當(dāng)硅片8放置在支撐機(jī)構(gòu)上時，所述浮動壓輪4與硅片8接觸，通過在芯軸（3）上浮動設(shè)置浮動壓輪（4），浮動壓輪（4）對硅片（8）起到緩沖作用。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人常州億晶光電科技有限公司，其通訊地址為：213213 江蘇省常州市金壇區(qū)堯塘鎮(zhèn)金武路18號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。