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龍圖騰網獲悉深圳市笨輝光電科技有限公司申請的專利一種光刻機系統及光刻方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114114856B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111544292.1，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權一種光刻機系統及光刻方法是由侯國輝;侯國利;劉友蘭;侯利艷設計研發完成，并于2021-12-16向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種光刻機系統及光刻方法在說明書摘要公布了：本發明涉及光刻機技術領域，尤其涉及一種光刻機系統及光刻方法。該光刻機系統包括光源模塊，光源模塊能夠發射至少兩種能量光束；能量光束調節模塊，用于調整能量光束的波長和能量；光學組件模塊，光學組件模塊用于對能量光束進行共線合軸和聚焦形成貝塞爾光束；四波混頻光發射模塊，用于提供四波混頻藍光，四波混頻藍光與貝塞爾光束進行共線合軸和聚焦能夠形成短波能量光束；運動組件模塊，包括樣品臺和智能機械手，樣品臺設置成能夠進行位置移動狀態，智能機械手用于調整樣品臺上的待刻樣品位置，通過該系統能夠實現光刻光束線寬的無限縮小，光束能夠縮小到5nm、3nm及2nm甚至更低，在提高光刻精度的同時還降低了功耗。

本發明授權一種光刻機系統及光刻方法在權利要求書中公布了：1.一種光刻機系統，其特征在于，包括： 光源模塊，所述光源模塊能夠發射至少兩種能量光束，所述光源模塊包括單波段光源、連續波段光源和部分波段光源，所述能量光束包括基礎賦能光束和光刻光束； 能量光束調節模塊，所述能量光束調節模塊用于調整所述能量光束的波長和能量，所述能量光束調節模塊包括濾波器和分束鏡； 光學組件模塊，所述光學組件模塊至少包括兩個凹面鏡和至少一個聚焦鏡，所述光學組件模塊用于對所述能量光束進行共線合軸和聚焦形成貝塞爾光束； 四波混頻光發射模塊，所述四波混頻光發射模塊用于提供四波混頻藍光，所述四波混頻藍光與所述貝塞爾光束進行共線合軸和聚焦能夠形成短波能量光束，所述四波混頻光發射模塊包括球狀或者柱狀的四波混頻藍光發射元件； 運動組件模塊，所述運動組件模塊包括樣品臺和智能機械手，所述樣品臺設置成能夠進行位置移動狀態，所述智能機械手用于調整所述樣品臺上的待刻樣品位置； 定位反饋模塊，所述定位反饋模塊包括激光與寬帶光反饋裝置，所述激光與寬帶光反饋裝置用于對所述樣品臺的位置進行定位和反饋； 終端控制中心，所述終端控制中心為所述光刻機系統的主控單元，能夠控制所述光學組件模塊內部組件的運動，并且能夠使其形成對所述能量光束進行共線合軸和聚焦的反射光路。

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