大立光電股份有限公司蔡溫祐獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉大立光電股份有限公司申請的專利光學鏡頭、取像裝置及電子裝置獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114660767B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202111562727.5,技術領域涉及:G02B13/00;該發明授權光學鏡頭、取像裝置及電子裝置是由蔡溫祐;張建邦;紀奇瑋;洪偉峰;鄧鈞鴻;朱國強設計研發完成,并于2021-12-20向國家知識產權局提交的專利申請。
本光學鏡頭、取像裝置及電子裝置在說明書摘要公布了:本揭示內容提供一種光學鏡頭、取像裝置及電子裝置,光學鏡頭由物側至像側包含至少四光學鏡片。所述至少四光學鏡片中至少一光學鏡片包含一抗反射鍍膜,包含抗反射鍍膜的光學鏡片為塑膠鏡片,抗反射鍍膜位于光學鏡片的物側表面或像側表面,抗反射鍍膜包含至少一膜層,位于抗反射鍍膜外側的膜層為陶瓷膜層,抗反射鍍膜包含多個孔洞,且鄰近抗反射鍍膜外側的孔洞的尺寸大于鄰近抗反射鍍膜內側的孔洞的尺寸。借此,可以使具有多個光學鏡片的光學鏡頭獲得最佳抗反射效果,能顯著提升光學鏡頭的成像品質。
本發明授權光學鏡頭、取像裝置及電子裝置在權利要求書中公布了:1.一種光學鏡頭,其特征在于,該光學鏡頭由物側至像側包含: 至少四光學鏡片; 其中,至少一該光學鏡片包含一抗反射鍍膜,包含該抗反射鍍膜的該光學鏡片為塑膠鏡片,該抗反射鍍膜位于該光學鏡片的物側表面或像側表面,該抗反射鍍膜包含至少一膜層,位于該抗反射鍍膜外側的該膜層為陶瓷膜層,該抗反射鍍膜包含多個孔洞,且鄰近該抗反射鍍膜外側的該些孔洞的尺寸大于鄰近該抗反射鍍膜內側的該些孔洞的尺寸; 其中,位于該光學鏡片中心處的該抗反射鍍膜的總厚度為Tc,位于該光學鏡片周邊處的該抗反射鍍膜的總厚度為Tp,該光學鏡片為一基材,該基材于光軸上的厚度為CTs,該光學鏡片表面上與光軸交點間水平位移的最大值為SAGmax,該光學鏡頭的抗反射鍍膜配置第一因子為Far1,Far1=|SAGmax|CTs,該光學鏡片表面于光學有效徑范圍內的切線斜率的平均值為SPavg,該光學鏡片表面于光學有效徑范圍內的切線斜率的最小值為SPmin,該光學鏡頭的抗反射鍍膜配置第二因子為Far2,Far2=1|SPavg|×|SPmin|,該基材的折射率為Ns,該光學鏡頭的抗反射鍍膜配置第三因子為Far3,Far3=1Ns-12,該光學鏡頭的抗反射鍍膜配置主因子為FAR,FAR=LOGFar1×Far2×Far3,其滿足下列條件: |Tc-Tp|Tc≤5.00%;以及 -1.5≤FAR≤10。
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