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龍圖騰網獲悉張家港安儲科技有限公司申請的專利一種用于半導體晶圓清洗過程中的清洗液組合物獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115232680B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211003753.9，技術領域涉及：C11D1/62；該發明授權一種用于半導體晶圓清洗過程中的清洗液組合物是由孫秀巖;王倩;張蕾設計研發完成，并于2022-08-04向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種用于半導體晶圓清洗過程中的清洗液組合物在說明書摘要公布了：本發明公開了一種用于半導體晶圓清洗過程中的清洗液組合物，按照總質量百分比100%計，包括以下原料組分：羥胺或羥胺鹽的化合物0.1?40%、有機酸0.1?10%、季銨堿0.1?30%、鏈烷醇胺0?20%，剩余為超純水。本發明的清洗液組合物，其通過羥胺或羥胺鹽的化合物能夠起到部分還原表面吸附的氧化鈰從而弱化氧化鈰粒子和氧化硅表面的吸附力，而有機酸的添加可以和氧化鈰表面的鈰離子形成絡合鍵從而打破氧化鈰粒子和氧化硅表面的結合以達到去除氧化硅表面吸附的氧化鈰納米粒子，另外該清洗液在使用時處于堿性環境，不會對氧化硅和氮化硅表面造成損傷。

本發明授權一種用于半導體晶圓清洗過程中的清洗液組合物在權利要求書中公布了：1.一種清洗液組合物在半導體晶圓制程中化學機械研磨后去除晶圓表面氧化鈰粒子的應用，其特征在于，所述清洗液組合物的原料包括羥胺或羥胺鹽的化合物、有機酸、季銨堿、鏈烷醇胺，所述羥胺或羥胺鹽的化合物為羥胺或硫酸羥胺，所述季銨堿為四甲基氫氧化銨或氫氧化膽堿，鏈烷醇胺為乙醇胺, 當季銨堿采用四甲基氫氧化銨時，所述清洗液組合物按照總質量百分比100%計，包括以下原料組分：四甲基氫氧化銨為10%或22%、硫酸羥胺為5%、葡萄糖酸為1%、乙醇胺為0或5%，剩余為超純水，13.12≤pH≤14.89； 當季銨堿采用氫氧化膽堿、羥胺或羥胺鹽的化合物采用了羥胺時，所述清洗液組合物按照總質量百分比100%計，包括以下原料組分： 氫氧化膽堿為7.5-10.7%、羥胺為1.7-2.0%、有機酸為3.3-5.0%，剩余為超純水，11.29≤pH≤11.47，其中，所述有機酸選自檸檬酸、乙二胺四乙酸、葡萄糖酸、鄰苯二酚中的任一一種； 當季銨堿采用氫氧化膽堿、羥胺或羥胺鹽的化合物采用了硫酸羥胺時，所述清洗液組合物按照總質量百分比100%計，包括以下原料組分： 氫氧化膽堿為9.0-13.0%、硫酸羥胺為1.0-7.5%、乙醇胺為0或5%、葡萄糖酸為1.0%，剩余為超純水，13.03≤pH≤13.48。

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