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龍圖騰網獲悉蘇州大學申請的專利一種基于極小曲面的晶胞雜化方法、裝置、設備及應用獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115579082B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211158307.5，技術領域涉及：G16C60/00；該發明授權一種基于極小曲面的晶胞雜化方法、裝置、設備及應用是由邢占文;鞏磊;李文利;劉衛衛設計研發完成，并于2022-09-22向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種基于極小曲面的晶胞雜化方法、裝置、設備及應用在說明書摘要公布了：本發明公開了一種基于極小曲面的晶胞雜化方法、裝置、設備及應用，涉及計算機輔助設計和增材制造技術領域，選取待雜化的第一晶胞結構和第二晶胞結構，基于所述第二晶胞結構特征，對所述第一晶胞結構原始函數的三角函數項進行修改，得到由所述第一晶胞結構和所述第二晶胞結構雜化結合的單體晶胞結構，構建用于填充的單元雜化模型，通過調整所述單元雜化模型的曲面結構周期k和曲面閾值常數C，得到所需尺寸的單元晶胞，基于目標零件結構，構建目標模型，利用所述單元晶胞進行重組填充，生成目標零件，克服了新型晶胞在過渡區間支架容易產生失效的問題，實現了在保證支架具有更大表面積和更好的孔隙連通性的同時，使得支架具有較強的力學性能。

本發明授權一種基于極小曲面的晶胞雜化方法、裝置、設備及應用在權利要求書中公布了：1.一種基于極小曲面的晶胞雜化方法，其特征在于，包括： 選取待雜化的第一晶胞結構和第二晶胞結構； 將所述第一晶胞結構的三角函數的基礎上新增所述第二晶胞結構的三角函數特征項，得到由所述第一晶胞結構和所述第二晶胞結構雜化結合的單體晶胞結構； 其中，所述第一晶胞結構的三角函數表達式為： ； 所述包括： ； ； ； 其中，為曲面結構周期，為曲面閾值常數，，，為函數變量，為或或；、、分別為Primitive型、Gyroid型、Diamond型曲面結構單元的隱函數表示； 構建用于填充的單元雜化模型，通過調整所述單元雜化模型的曲面結構周期調整所述單元雜化模型中晶胞數量，通過調整曲面閾值常數調節所述單元雜化模型在某一方向或某兩個方向的孔徑梯度結構，得到所需尺寸的單元晶胞；基于目標零件結構，構建目標模型，利用所述單元晶胞進行重組填充，生成目標零件； 將所述目標零件利用三維設計軟件導出STL文件并切片，利用3D打印技術完成目標零件的打印。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人蘇州大學，其通訊地址為：215000 江蘇省蘇州市吳中區石湖西路188號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。