武漢敏聲新技術有限公司孫博文獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉武漢敏聲新技術有限公司申請的專利一種諧振器及其制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN117833859B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202410008162.3,技術領域涉及:H03H9/17;該發明授權一種諧振器及其制備方法是由孫博文;周杰;李習科;皮本松;蔡耀;孫成亮設計研發完成,并于2024-01-03向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種諧振器及其制備方法在說明書摘要公布了:本申請提供一種諧振器及其制備方法,涉及諧振器技術領域,諧振器包括襯底以及依次層疊于襯底的底電極、壓電層和頂電極,頂電極具有位于諧振器工作區域邊緣的聲反射部,聲反射部朝向背離壓電層的至少一側拱起,以與壓電層之間形成多個反射空腔,利用反射空腔的內空氣和聲反射部之間的聲阻抗不匹配,從而對橫向聲波進行反射,以此,降低縱向能量的損耗,提高諧振器的Q值,并且由于聲反射部朝向背離壓電層的一側拱起,所以,能夠使得頂電極通過拱起的方式得到有效的延長,從而通過頂電極提高了器件的熱穩定性,降低諧振器的溫漂系數。
本發明授權一種諧振器及其制備方法在權利要求書中公布了:1.一種諧振器,其特征在于,包括襯底以及依次層疊于所述襯底的底電極、壓電層和頂電極,所述頂電極具有位于所述諧振器工作區域邊緣的聲反射部,所述聲反射部朝向背離所述壓電層的至少一側拱起,以與所述壓電層之間形成多個反射空腔;在所述聲反射部和所述壓電層之間設置有至少一個絕緣隔離層; 所述反射空腔為所述至少部分頂電極、絕緣隔離層以及壓電層構成的封閉區域; 所述聲反射部包括第一聲反射部,所述第一聲反射部為拱形結構,所述絕緣隔離層位于所述第一聲反射部遠離所述工作區域中心的邊緣端和所述壓電層之間,所述絕緣隔離層位于所述第一聲反射部的反射空腔遠離所述工作區域的邊界,以通過所述絕緣隔離層能夠使得所述第一聲反射部的落腳點不直接與所述壓電層接觸; 所述聲反射部還包括第三聲反射部,多個所述第三聲反射部沿所述工作區域中心朝向邊緣的方向依次排布,且多個所述第三聲反射部的反射空腔沿排布方向的厚度逐漸增加。
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