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龍圖騰網(wǎng)獲悉北京航空航天大學(xué)申請的專利通過組合納米微粒和激光燒結(jié)制造梯度釔穩(wěn)定氧化鋯薄膜的方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN117886605B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202410080704.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C04B35/48；該發(fā)明授權(quán)通過組合納米微粒和激光燒結(jié)制造梯度釔穩(wěn)定氧化鋯薄膜的方法是由邱璐;陳翔宇;朱劍琴;陶智設(shè)計研發(fā)完成，并于2024-03-01向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本通過組合納米微粒和激光燒結(jié)制造梯度釔穩(wěn)定氧化鋯薄膜的方法在說明書摘要公布了：通過組合納米微粒和激光燒結(jié)制造梯度釔穩(wěn)定氧化鋯薄膜的方法，涉及陶瓷薄膜領(lǐng)域，包括：將ZrC、W、8YSZ、SiC納米微粒混合均勻后獲得L?YSZ組合納米微粒；利用L?YSZ組合納米微粒制備L?YSZ組合納米微粒墨水；L?YSZ組合納米微粒薄膜噴墨打印沉積；將GH625鎳合金基板加熱至50?52℃；調(diào)整Nd?YAG激光器的光斑直徑為0.2?0.3mm；設(shè)置激光掃描路徑；調(diào)整激光功率70?75W，掃描速度500?600mms，掃描線間距0.001?0.0015mm，并對L?YSZ組合納米微粒薄膜進(jìn)行激光燒結(jié)。本發(fā)明所制備的梯度釔穩(wěn)定氧化鋯薄膜具有優(yōu)異的梯度力學(xué)性能與高界面結(jié)合強(qiáng)度。

本發(fā)明授權(quán)通過組合納米微粒和激光燒結(jié)制造梯度釔穩(wěn)定氧化鋯薄膜的方法在權(quán)利要求書中公布了：1.通過組合納米微粒和激光燒結(jié)制造梯度釔穩(wěn)定氧化鋯薄膜的方法，其特征在于，包括以下步驟： 步驟S1：L-YSZ組合納米微粒制備； 將ZrC、W、8YSZ、SiC納米微粒混合均勻后獲得L-YSZ組合納米微粒； 所述ZrC、W、8YSZ、SiC的質(zhì)量比為：30±2:20±2:15±1:2±1； 步驟S2：利用L-YSZ組合納米微粒制備L-YSZ組合納米微粒墨水； 步驟S3：L-YSZ組合納米微粒薄膜噴墨打印沉積； S3.1：將GH625鎳合金基板用超聲波清洗機(jī)徹底清洗，再用異丙醇、乙醇和超純水依次處理，然后在熱爐中干燥； S3.2：選擇合適的波形，獲得L-YSZ組合納米微粒墨水的穩(wěn)定的液滴序列； S3.3：借助可控溫的加熱臺控制GH625鎳合金基板溫度為170-180℃； S3.4：設(shè)置打印參數(shù)和打印圖案后開始打印，最終獲得L-YSZ組合納米微粒薄膜； 步驟S4：L-YSZ組合納米微粒薄膜激光燒結(jié)； 步驟S4.1：將打印好L-YSZ組合納米微粒薄膜的GH625鎳合金基板置于可控溫的加熱臺上，并設(shè)置加熱溫度為50-52℃； 步驟S4.2：調(diào)整Nd-YAG激光器的光斑直徑為0.2-0.3mm； 步驟S4.3：設(shè)置激光掃描路徑為之字形模式； 步驟S4.4：調(diào)整激光燒結(jié)參數(shù)分別為：激光功率70-75W，掃描速度500-600mms，掃描線間距0.001-0.0015mm，并對L-YSZ組合納米微粒薄膜進(jìn)行激光燒結(jié)，使納米微粒生長和部分熔融，使碳化相氧化為功能氧化相，形成梯度組分分布的釔穩(wěn)定氧化鋯薄膜。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人北京航空航天大學(xué)，其通訊地址為：100089 北京市海淀區(qū)學(xué)院路37號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。