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龍圖騰網(wǎng)獲悉上海普達(dá)特設(shè)備科技有限公司;上海普達(dá)特半導(dǎo)體設(shè)備有限公司申請的專利用于金屬電化學(xué)沉積的陰極裝置及電化學(xué)反應(yīng)系統(tǒng)獲國家實(shí)用新型專利權(quán)，本實(shí)用新型專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN223255509U 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的實(shí)用新型授權(quán)公告中獲悉：該實(shí)用新型的專利申請?zhí)?專利號為：202422028254.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C25D17/12；該實(shí)用新型用于金屬電化學(xué)沉積的陰極裝置及電化學(xué)反應(yīng)系統(tǒng)是由張國才;嚴(yán)必明;周靖上設(shè)計研發(fā)完成，并于2024-08-21向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本用于金屬電化學(xué)沉積的陰極裝置及電化學(xué)反應(yīng)系統(tǒng)在說明書摘要公布了：本申請?zhí)峁┮环N用于金屬電化學(xué)沉積的陰極裝置及電化學(xué)反應(yīng)系統(tǒng)，其中，陰極裝置包括位于在電化學(xué)反應(yīng)系統(tǒng)內(nèi)的保護(hù)槽以及位于保護(hù)槽內(nèi)的陰極導(dǎo)電件和至少一個清理組件；至少一個清理組件位于陰極導(dǎo)電件的第一側(cè)；清理組件與陰極導(dǎo)電件軟接觸。通過清理組件清潔陰極導(dǎo)電件表面的藥液，清理組件陰極導(dǎo)電件之間的軟接觸不會損傷陰極導(dǎo)電件，且清理組件設(shè)置在第一側(cè)能夠提高清理效率，提升了陰極導(dǎo)電件的清潔效果和使用壽命。同時，本申請還提供一種電化學(xué)反應(yīng)系統(tǒng)，包括前述的陰極裝置，通過清理組件進(jìn)行清潔，延長了陰極裝置的使用壽命，有利于達(dá)到更好的鍍膜效果。

本實(shí)用新型用于金屬電化學(xué)沉積的陰極裝置及電化學(xué)反應(yīng)系統(tǒng)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于金屬電化學(xué)沉積的陰極裝置，其特征在于，包括保護(hù)槽以及設(shè)置于所述保護(hù)槽內(nèi)的陰極導(dǎo)電件和至少一個清理組件，所述保護(hù)槽應(yīng)用時設(shè)置于電化學(xué)反應(yīng)系統(tǒng)的反應(yīng)槽內(nèi)； 所述陰極導(dǎo)電件轉(zhuǎn)動接觸待沉積件；所述陰極導(dǎo)電件包括轉(zhuǎn)動遠(yuǎn)離所述待沉積件的第一側(cè)和轉(zhuǎn)動接近所述待沉積件的第二側(cè)；至少一個所述清理組件位于所述陰極導(dǎo)電件的第一側(cè)； 所述清理組件與所述陰極導(dǎo)電件軟接觸。

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