北京博視像元科技有限公司李金華獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉北京博視像元科技有限公司申請的專利一種單相機多投影的結構光測量系統及三維重建方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN118960618B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202411390690.6,技術領域涉及:G01B11/25;該發明授權一種單相機多投影的結構光測量系統及三維重建方法是由李金華;朱江兵;楊軍超設計研發完成,并于2024-10-08向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種單相機多投影的結構光測量系統及三維重建方法在說明書摘要公布了:本發明公開一種單相機多投影的結構光測量系統及三維重建方法,涉及結構光測量技術領域。所述方法包括:結構光投影儀發出結構光,在被測物體表面投射全畫幅內寬度相等的結構光條紋,控制結構光條紋勻速移動;高速采集相機采集被測物體表面的結構光條紋圖像;根據采集到的結構光條紋圖像重建被測物體的多張高度圖;識別多張高度圖中有遮擋的噪聲區域和無遮擋的真實高度區域,并從多張高度圖中剔除有遮擋的噪聲區域;將多張高度圖中無遮擋的真實高度區域融合,得到一張完整的高度圖,基于得到的高度圖實現被測物體的三維重建。本發明采用單個結構光投影儀實現了多投影的效果,既降低了成本,又提升了多投影的一致性。
本發明授權一種單相機多投影的結構光測量系統及三維重建方法在權利要求書中公布了:1.一種單相機多投影的三維重建方法,其特征在于,包括: Step1、結構光投影儀發出結構光,在被測物體表面投射經不同方向反射棱鏡和反射鏡反射后的全畫幅內寬度相等的結構光條紋,并控制結構光條紋勻速移動;基于結構光條紋生成算法,在生成條紋時精確控制條紋的周期和相位偏移,具體包括以下子步驟: 創建一個條紋周期和相位偏移的優化函數; 優化函數表示為:,其中T為待求解的條紋周期,為待求解的相位偏移,分別為解碼效率、解碼誤差的權重系數,用于平衡解碼精度和編碼效率之間的權重,為系統生成結構光條紋時所用到的常數項,為誤差幅度,為誤差增長速率的指數; 基于優化函數求得條紋周期和相位偏移的最優解; 基于條紋周期和相位偏移的最優解生成結構光條紋; Step2、高速采集相機采集被測物體表面經不同方向反射棱鏡和反射鏡反射后的結構光條紋圖像; Step3、根據采集到的結構光條紋圖像重建被測物體的多張高度圖; Step4、識別多張高度圖中有遮擋的噪聲區域和無遮擋的真實高度區域,并從多張高度圖中剔除有遮擋的噪聲區域; Step5、將多張高度圖中無遮擋的真實高度區域融合,得到一張完整的高度圖,基于得到的高度圖實現被測物體的三維重建。
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