一種近紅外光響應的非均勻浸潤性表面及制備方法
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專利號：2022105487969專利權維持
申請日：
2022-05-20
發布日期：2025-09-02
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專利摘要
本發明涉及材料制備領域，尤其是一種近紅外光響應的非均勻浸潤性表面及制備方法，該表面包括基底、第一聚合物膜層、近紅外光響應膜層和第二聚合物膜層；所述第一聚合物膜層生長于所述基底上，所述第一聚合物膜層為可蝕刻的膜層，所述近紅外光響應膜層生長在所述第一聚合物膜層背離所述基底的一側，所述第二聚合物膜層生長于所述近紅外光響應膜層背離所述第一聚合物膜層的一側，所述第二聚合物膜層為溫敏膜層。本發明可利用近紅外光的局域照射誘導近紅外光響應膜層產生等離子熱效應，從而誘導第二聚合物膜層表面化學和或表面結構的改變，從而實現表面特定位置浸潤性改變，并且利用本發明可通過高度靈活、非接觸式、綠色簡單便捷的方式實現微液滴的精準操控。
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企業營業執照 專利證書原件 |
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