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龍圖騰網(wǎng)獲悉上海集成電路裝備材料產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新中心有限公司;上海集成電路研發(fā)中心有限公司申請的專利掩膜圖案修正模型的訓練方法及掩膜圖案修正方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114332057B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-23發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202111678544.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06T7/00；該發(fā)明授權(quán)掩膜圖案修正模型的訓練方法及掩膜圖案修正方法是由時雪龍;燕燕;李琛;趙宇航;陳壽面設(shè)計研發(fā)完成，并于2021-12-31向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本掩膜圖案修正模型的訓練方法及掩膜圖案修正方法在說明書摘要公布了：本申請?zhí)峁┮环N掩膜圖案修正模型的訓練方法及掩膜圖案修正方法。該方法包括：獲取光學鄰近效應(yīng)校正OPC前的掩膜圖案和OPC后的掩膜圖案；分別基于OPC前的掩膜圖案和OPC后的掩膜圖案，計算得到第一水平集函數(shù)和第二水平集函數(shù)；將第一水平集函數(shù)作為神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型的輸入，第二水平集函數(shù)作為神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型的輸出進行訓練，得到掩膜圖案修正模型。本申請?zhí)峁┑姆椒ɡ玫谝凰郊瘮?shù)和第二水平集函數(shù)分別表示OPC前的掩膜圖案和OPC后的掩膜圖案在離散網(wǎng)格上的圖像，無需利用大量特征向量對掩膜圖案鄰近環(huán)境進行編碼，提高了OPC的效率。

本發(fā)明授權(quán)掩膜圖案修正模型的訓練方法及掩膜圖案修正方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種掩膜圖案修正模型的訓練方法，其特征在于，包括： 獲取光學鄰近效應(yīng)校正OPC前的掩膜圖案和OPC后的掩膜圖案； 分別基于所述OPC前的掩膜圖案和所述OPC后的掩膜圖案，計算得到第一水平集函數(shù)和第二水平集函數(shù)，所述第一水平集函數(shù)表示所述OPC前的掩膜圖案在離散網(wǎng)格上的圖像，所述第二水平集函數(shù)表示所述OPC后的掩膜圖案在離散網(wǎng)格上的圖像； 將所述第一水平集函數(shù)作為神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型的輸入，所述第二水平集函數(shù)作為所述神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型的輸出進行訓練，得到掩膜圖案修正模型； 所述分別基于所述OPC前的掩膜圖案和所述OPC后的掩膜圖案，計算得到第一水平集函數(shù)和第二水平集函數(shù)，包括： 獲取所述OPC前的掩膜圖案的第一部分圖案和所述OPC后的掩膜圖案的第二部分圖案，分別計算所述第一部分圖案和所述第二部分圖案的裁剪窗口中心坐標； 根據(jù)所述第一部分圖案的裁剪窗口中心坐標，通過坐標平移變換，確定所述OPC前的掩膜圖案的頂點坐標，并根據(jù)所述第二部分圖案的窗口中心坐標，通過坐標平移變換，確定所述OPC后的掩膜圖案的頂點坐標； 基于設(shè)定的第一網(wǎng)格矩陣構(gòu)建所述第一水平集函數(shù)，基于設(shè)定的第二網(wǎng)格矩陣用于構(gòu)建所述第二水平集函數(shù)； 將通過坐標平移變換后的所述OPC前的掩膜圖案映射到所述第一網(wǎng)格矩陣，并將通過坐標平移變換后的所述OPC后的掩膜圖案映射到所述第二網(wǎng)格矩陣； 在所述第一網(wǎng)格矩陣中識別所述第一網(wǎng)格矩陣中距離最接近所述OPC前的掩膜圖案邊的第一格點集合，并在所述第二網(wǎng)格矩陣中識別所述第二網(wǎng)格矩陣中距離最接近所述OPC后的掩膜圖案邊的第二格點集合； 計算所述第一格點集合中的格點與所述OPC前的掩膜圖案邊的第一最小距離，并計算所述第二格點集合中的格點和所述OPC后的掩膜圖案邊的第二最小距離； 識別所述第一格點集合中的格點與所述OPC前的掩膜圖案的第一位置關(guān)系，并識別所述第二格點集合中的格點和所述OPC后的掩膜圖案的第二位置關(guān)系； 根據(jù)所述第一最小距離和所述第一位置關(guān)系進行計算得到所述第一水平集函數(shù)，并根據(jù)所述第二最小距離和所述第二位置關(guān)系進行計算得到所述第二水平集函數(shù)。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人上海集成電路裝備材料產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新中心有限公司;上海集成電路研發(fā)中心有限公司，其通訊地址為：201821 上海市嘉定區(qū)葉城路1288號6幢JT2216室；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。