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龍圖騰網獲悉中國科學院長春光學精密機械與物理研究所申請的專利一種基于融合信號的光柵絕對定位裝置以及方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120521507B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202511033094.7，技術領域涉及：G01B11/02；該發明授權一種基于融合信號的光柵絕對定位裝置以及方法是由梁旭;李文昊;劉兆武;曾鵬;陳丹怡設計研發完成，并于2025-07-25向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種基于融合信號的光柵絕對定位裝置以及方法在說明書摘要公布了：本發明涉及光柵尺測量技術領域，尤其涉及一種基于融合信號的光柵絕對定位裝置以及方法，基于融合信號的光柵絕對定位裝置包括：測量光柵，測量光柵包括刻線區和非反射區，多個刻線區作為增量碼道，非反射區作為參考標記；讀數頭，讀數頭包括參考組件、光源、干涉光路結構以及四步相移結構，光源發出的高斯光束經過干涉光路結構分束為第一光束和第二光束，第一光束射入測量光柵形成測量光，第二光束射入參考組件形成參考光，參考光和測量光經過干涉光路結構發生干涉形成干涉光，四步相移結構接收干涉光，并基于干涉光形成干涉信號。本發明至少有利于降低基于融合信號的光柵絕對定位裝置的結構復雜度。

本發明授權一種基于融合信號的光柵絕對定位裝置以及方法在權利要求書中公布了：1.一種基于融合信號的光柵絕對定位裝置，其特征在于，包括： 測量光柵，所述測量光柵包括刻線區和非反射區，多個刻線區沿第一方向間隔排布，所述非反射區位于相鄰的兩個刻線區之間，所述刻線區包括沿所述第一方向周期排布的多個刻線，所述刻線區的表面具有反射層，所述非反射區的表面不具有反射層，多個所述刻線區作為增量碼道，所述非反射區作為參考標記； 讀數頭，所述讀數頭包括參考組件、光源、干涉光路結構以及四步相移結構，所述光源發出的高斯光束經過所述干涉光路結構分束為第一光束和第二光束，所述第一光束射入所述測量光柵形成測量光，所述第二光束射入參考組件形成參考光，所述參考光和所述測量光經過所述干涉光路結構發生干涉形成干涉光，所述四步相移結構接收所述干涉光，并基于所述干涉光形成干涉信號； 所述讀數頭相對于所述測量光柵沿所述第一方向移動，根據所述干涉信號確定所述讀數頭的增量位移，所述第一光束照射所述參考標記時所述干涉信號的幅值小于所述第一光束照射所述增量碼道時所述干涉信號的幅值，且僅所述第一光束的中心與所述參考標記的中心正對時，所述干涉信號的幅值最小。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中國科學院長春光學精密機械與物理研究所，其通訊地址為：130033 吉林省長春市經濟技術開發區東南湖大路3888號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。