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龍圖騰網獲悉吉林省巨程智造光電技術有限公司申請的專利一種半導體制造用納米光學鏡片的多層鍍膜方法及應用獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120366699B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-16發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510833296.3，技術領域涉及：C23C14/06；該發明授權一種半導體制造用納米光學鏡片的多層鍍膜方法及應用是由楊東來;高斯凱;張慧;許軍;李薇;周正設計研發完成，并于2025-06-20向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種半導體制造用納米光學鏡片的多層鍍膜方法及應用在說明書摘要公布了：本發明涉及光學薄膜技術領域，具體是一種半導體制造用納米光學鏡片的多層鍍膜方法及應用，為了提高光學鏡片的耐污性能與抗反射性能，本發明在光學鏡片表面進行了多層鍍膜處理，本發明在對鏡片進行拋光、清潔處理后，對其表面進行了進一步的蝕刻活化處理，增加后續鍍膜層的接觸面積，增加咬合點，改善鍍膜與玻璃基體之間的結合強度；并且，本發明還在其表面濺射了一層硅膜，并分別在氫氣氬氣混合氛圍下和SF6與氬氣混合氣體氛圍中處理硅層，從而形成硅層的不同性質改性，提升與玻璃基體之間的結合性能，并在這一基礎上對其表面濺射一層具有高透光率的氟鈣層，從而最終實現了鏡片的低反射性能。

本發明授權一種半導體制造用納米光學鏡片的多層鍍膜方法及應用在權利要求書中公布了：1.一種半導體制造用納米光學鏡片的多層鍍膜方法，其特征在于，包括以下步驟： S1.將玻璃鏡片表面研磨處理，經粗拋光、細拋光后，備用； S2.將拋光后的玻璃鏡片置于去離子水中，超聲清洗10~20min后，熱風干燥表面后，再次將其分別置于丙酮、無水乙醇中，超聲清洗10~20min后，干燥，備用； S3.將經清洗后的玻璃鏡片置于蝕刻氣體與活化氣體中，控制工作氣壓為0.05~0.15Pa，蝕刻活化15~30min后，抽真空，再次通入純凈的活化氣體，控制工作氣壓為0.1~0.25Pa，繼續處理5~10min后，取出，得到活化玻璃鏡片； 其中，所述蝕刻氣體為C2F6；所述活化氣體為氧氣；所述蝕刻氣體與活化氣體的體積比為（1~4）：1； 蝕刻活化時，工作電壓為800~1200V，升溫至350~450℃； S4.將活化玻璃鏡片置于真空濺射反應鍍膜機中，抽真空后，向其中通入氬氣，控制氣壓為0.01~0.1Pa，對其中頻磁控濺射，濺射源使用高純硅靶，濺射，濺射功率為5~10kW； S5.將表面濺射硅層后的鏡片置于氫氣、氬氣的混合氣體氛圍中，控制真空度為0.001~0.1Pa后，控制工作電壓為1.2~3kV，處理2~4min后，在鏡片表面形成硅氫層后，將工作氣體氛圍切換為SF6與氬氣的混合氣體氛圍，維持工作氣壓，繼續處理30~45s后，形成氟硅層，取出，備用； S6.將表面形成氟硅層的鏡片置于真空室內，使用CaF2陶瓷靶材作為濺射源，抽真空后，向其中通入氬氣與SF6混合氣體氛圍，控制工作氣壓為0.1~2.5Pa，濺射結束后，得到半導體制造用納米光學鏡片。

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