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龍圖騰網(wǎng)獲悉中南大學(xué);云南貴金屬實(shí)驗(yàn)室有限公司申請(qǐng)的專利Cu/Cu₃P@TiO₂納米網(wǎng)光電極及其制備和在光電還原制氨及光電氧化中的應(yīng)用獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN120330793B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-16發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202510831396.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C25B11/091；該發(fā)明授權(quán)Cu/Cu₃P@TiO₂納米網(wǎng)光電極及其制備和在光電還原制氨及光電氧化中的應(yīng)用是由潘軍;童家鑫;譚鵬飛;劉鋒;謝建平設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-06-20向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本Cu/Cu₃P@TiO₂納米網(wǎng)光電極及其制備和在光電還原制氨及光電氧化中的應(yīng)用在說明書摘要公布了：本發(fā)明屬于光電催化領(lǐng)域，具體涉及一種CuCu3P@TiO2納米網(wǎng)光電極及其制備和在光電還原制氨及光電氧化中的應(yīng)用，其中，所述的CuCu3P@TiO2納米網(wǎng)光電極包括鈦基底、原位生長(zhǎng)于鈦基底表面的TiO2納米網(wǎng)、均勻彌散分布在TiO2納米網(wǎng)上的銅基雙相納米顆粒；所述的TiO2納米網(wǎng)為通過TiO2納米線交織成的三維網(wǎng)狀材料；所述的銅基雙相納米顆粒包括納米Cu顆粒和納米Cu3P顆粒，且銅基雙相納米顆粒和TiO2納米網(wǎng)之間存在異質(zhì)界面。本發(fā)明所述的電極具有優(yōu)異的光電催化氧化和光電催化還原多功能特點(diǎn)，且光電催化性能優(yōu)異。

本發(fā)明授權(quán)Cu/Cu₃P@TiO₂納米網(wǎng)光電極及其制備和在光電還原制氨及光電氧化中的應(yīng)用在權(quán)利要求書中公布了：1.一種CuCu3P@TiO2納米網(wǎng)光電極，其特征在于，包括鈦基底、原位生長(zhǎng)于鈦基底表面的TiO2納米網(wǎng)、均勻彌散分布在TiO2納米網(wǎng)上的銅基雙相納米顆粒；所述的TiO2納米網(wǎng)為通過TiO2納米線交織成的三維網(wǎng)狀材料； 所述的銅基雙相納米顆粒包括納米Cu顆粒和納米Cu3P顆粒，且銅基雙相納米顆粒和TiO2納米網(wǎng)之間存在異質(zhì)界面； 所述的CuCu3P@TiO2納米網(wǎng)光電極的制備步驟包括： 步驟1： 將Ti基底和2~6M的堿液混合并進(jìn)行溶劑熱處理，其中，控制溶劑熱的時(shí)間為0.5~3.5h；隨后將溶劑熱產(chǎn)物進(jìn)行酸處理，再在300~600℃的溫度下進(jìn)行焙燒處理，在鈦基底上生長(zhǎng)TiO2納米網(wǎng)，制得Ti@TiO2納米網(wǎng)； 步驟2： 將Ti@TiO2納米網(wǎng)預(yù)先在電解液A中進(jìn)行第一段CV電沉積處理，制得一段電處理電極；其中，電解液A為溶解有電解質(zhì)A的水溶液；所述的電解質(zhì)A為堿金屬和或堿土金屬的水溶性鹽； 步驟3： 將步驟2制得的一段電處理電極在電解液B中進(jìn)行第二段CV電沉積處理，在一段電處理電極上原位形成銅基雙相納米顆粒，制得所述的CuCu3P@TiO2納米網(wǎng)光電極；其中，電解液B為溶有水溶性銅鹽、水溶性磷酸鹽和電解質(zhì)B的水溶液，其中，電解質(zhì)B為弱酸強(qiáng)堿鹽，電解液B的pH為5~7； 電解液B中，CuP摩爾比為2~10:1，Cu的濃度為0.5~5molL； 第二段CV電沉積處理過程中的掃描速度為5~25mVs，掃描圈數(shù)為3~20圈。

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