華為技術有限公司賈里·圖馬斯·薩沃萊寧獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉華為技術有限公司申請的專利成像設備和操作成像設備的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116113809B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080103627.3，技術領域涉及：G01J3/26；該發明授權成像設備和操作成像設備的方法是由賈里·圖馬斯·薩沃萊寧;佩卡·艾拉斯設計研發完成，并于2020-09-01向國家知識產權局提交的專利申請。
本成像設備和操作成像設備的方法在說明書摘要公布了：本發明涉及一種成像設備。成像設備包括法布里?珀羅干涉儀FPI元件，該元件包括限定了干涉儀間隙的兩個至少部分透射反射元件。干涉儀間隙的間隙長度至少在第一范圍內是可改變的。FPI元件在接收光時產生多個透射峰，并且通過改變干涉儀間隙的間隙長度，可改變每個透射峰的峰值波長。成像設備還包括多個光學濾波器，每個光學濾波器都使不同波長范圍內的光通過，每個波長范圍都具有不同的平均波長。而且，多個光學濾波器的波長范圍被選擇，使得每個波長范圍都最多包括一個在第一范圍的每個間隙長度處的峰值波長。
本發明授權成像設備和操作成像設備的方法在權利要求書中公布了：1.一種成像設備（100），其特征在于，包括： 法布里-珀羅干涉儀（FPI）元件（110），包括限定干涉儀間隙（113）的兩個至少部分透射反射元件（111、112）； 所述干涉儀間隙（113）的間隙長度至少在第一范圍內是可改變的，所述法布里-珀羅干涉儀元件（110）用于當其接收光時產生多個透射峰，通過改變所述干涉儀間隙（113）的間隙長度，可改變每個透射峰的峰值波長； 多個光學濾波器（121、122），每個光學濾波器（121、122）都用于使不同波長范圍內的光通過，每個波長范圍具有不同的平均波長； 所述多個光學濾波器（121、122）的波長范圍被選擇，使得每個波長范圍都最多包括一個在第一范圍的每個間隙長度處的峰值波長； 當所述間隙長度改變時，所述每個波長范圍都最多包括一個在第一范圍的每個間隙長度處的峰值波長對應的透射峰在相關光學濾波器的波長范圍內移動。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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