高通股份有限公司鮑軍靜獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉高通股份有限公司申請(qǐng)的專利混合低電阻金屬線獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114730733B 。
龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202080076478.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/768；該發(fā)明授權(quán)混合低電阻金屬線是由鮑軍靜;J·J·朱;G·納拉帕蒂設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-10-28向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本混合低電阻金屬線在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：公開(kāi)了在半導(dǎo)體器件設(shè)計(jì)和制造中使用的標(biāo)準(zhǔn)單元和用于制造標(biāo)準(zhǔn)單元的方法。所公開(kāi)的各方面包括具有多條寬金屬線的標(biāo)準(zhǔn)單元。寬金屬線由銅形成。標(biāo)準(zhǔn)單元也包括多條窄金屬線。對(duì)于12nm或更小的量級(jí)的線寬，該窄金屬線由具有比銅更低的電阻的材料形成。
本發(fā)明授權(quán)混合低電阻金屬線在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種標(biāo)準(zhǔn)單元，包括： 多條寬金屬線，其中所述寬金屬線由銅形成；以及 多條窄金屬線，其中對(duì)于12nm或更小的量級(jí)的線寬，所述窄金屬線由具有比銅更低的電阻的材料形成， 其中所述多條寬金屬線具有的高度大于所述多條窄金屬線的高度。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人高通股份有限公司，其通訊地址為：美國(guó)加利福尼亞州；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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1、本報(bào)告根據(jù)公開(kāi)、合法渠道獲得相關(guān)數(shù)據(jù)和信息，力求客觀、公正，但并不保證數(shù)據(jù)的最終完整性和準(zhǔn)確性。
2、報(bào)告中的分析和結(jié)論僅反映本公司于發(fā)布本報(bào)告當(dāng)日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔(dān)任何法律責(zé)任的依據(jù)或者憑證。
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