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龍圖騰網(wǎng)獲悉蘇州源卓光電科技有限公司申請的專利一種直寫式光刻系統(tǒng)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN116224717B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202111466602.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/20；該發(fā)明授權(quán)一種直寫式光刻系統(tǒng)是由劉棟;胡傳武;張雷設(shè)計研發(fā)完成，并于2021-12-03向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種直寫式光刻系統(tǒng)在說明書摘要公布了：本發(fā)明提出一種直寫式光刻系統(tǒng)，包括：光源模塊，配置為產(chǎn)生曝光用光束，運動平臺模塊，配置為吸附工件并帶動其運動至所需位置，對位檢測模塊，配置為用于工件對準和系統(tǒng)異常判斷，光刻鏡頭模塊，配置為產(chǎn)上圖形光束，控制模塊，配置為控制前述多個模塊，其中，光刻鏡頭模塊的多個光刻鏡頭分為N排，每排的光刻鏡頭數(shù)量相同，每排光刻鏡頭之間的距離D根據(jù)吸盤臺面沿掃描方向的長度L確定，通過光刻鏡頭分隔為多排的形式達到減小系統(tǒng)結(jié)構(gòu)尺寸的效果。

本發(fā)明授權(quán)一種直寫式光刻系統(tǒng)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種直寫式光刻系統(tǒng)，其特征在于， 包括： 光源模塊，配置為產(chǎn)生曝光用光束； 運動平臺模塊，包括吸盤臺面和運動組件，配置為通過所述吸盤臺面吸附待曝光的工件并由所述運動組件帶動其運動至所需位置； 對位檢測模塊，配置為對所述待曝光的工件進行位置對準以及用于所述直寫式光刻系統(tǒng)的異常判斷； 光刻鏡頭模塊，包括多個光刻鏡頭，配置為將所述光源模塊產(chǎn)生的光束調(diào)制為圖形光投射到所述待曝光的工件表面完成曝光； 控制模塊，配置為控制所述光源模塊、所述運動平臺模塊、所述對位檢測模塊以及所述光刻鏡頭模塊； 其中，所述多個光刻鏡頭分為N排，N取大于1的整數(shù)，每排光刻鏡頭數(shù)量相同，每排光刻鏡頭之間的距離D根據(jù)所述吸盤臺面沿掃描方向的長度L確定，具體為D=LN； 所述運動平臺模塊包括兩組吸盤臺面和對應(yīng)的運動組件，兩組所述吸盤臺面的初始位置位于所述多個光刻鏡頭的同一側(cè)或分別對稱設(shè)于所述多個光刻鏡頭的兩側(cè)； 所述對位檢測模塊包括多個視覺識別組件，所述多個視覺識別組件在曝光前拍攝對準圖像用于所述待曝光工件的位置對準，在曝光后拍攝校準圖像用于所述直寫式光刻系統(tǒng)的異常判斷；所述多個視覺識別組件以N排形式排列，每排所述視覺識別組件之間的距離與每排所述光刻鏡頭之間的距離相等； 所述兩組吸盤臺面被配置為：一組所述吸盤臺面上的工件進行曝光時不影響另一組所述吸盤臺面上的工件同步進行位置對準；一組所述吸盤臺面上的工件開始進行曝光時不會影響到另一組所述吸盤臺面曝光完成后回退進行異常檢測；相鄰的所述視覺識別組件與所述光刻鏡頭之間的距離D1根據(jù)吸盤臺面沿掃描方向的長度L確定,具體為D1=2LN。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人蘇州源卓光電科技有限公司，其通訊地址為：215026 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)汀蘭巷192號C5幢102室；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。