廈門乾照半導體科技有限公司吳雙獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉廈門乾照半導體科技有限公司申請的專利一種功能器件陣列及其制作裝置和制作方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114284178B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202111593568.5,技術領域涉及:H01L21/67;該發明授權一種功能器件陣列及其制作裝置和制作方法是由吳雙;柯志杰;談江喬;艾國齊;柯毅東設計研發完成,并于2021-12-23向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種功能器件陣列及其制作裝置和制作方法在說明書摘要公布了:本發明提供了一種功能器件陣列及其制作裝置和制作方法,包括:產生系統,所述產生系統用于將生成的聲表面駐波作用于功能材料溶液,以使所述功能材料溶液的表面形成液體尖峰陣列;定位系統,所述定位系統用于將目標基板移動至所述功能材料溶液的液體尖峰處,且將所述目標基板的功能區表面陣列與功能材料溶液的液體尖峰陣列對位設置,其中,所述功能材料溶液的液體尖峰與所述目標基板的功能區表面接觸,而在所述目標基板的功能區表面處形成功能材料液滴,且所述功能材料液滴揮發后形成所述功能器件。本發明提出了一種新型的制作工藝及裝置。無需將功能材料溶液通過噴嘴噴涂,不僅避免了資源的浪費,還實現了高密度功能器件陣列的制備。
本發明授權一種功能器件陣列及其制作裝置和制作方法在權利要求書中公布了:1.一種功能器件陣列的制作裝置,其特征在于,包括: 產生系統,所述產生系統用于將生成的聲表面駐波作用于功能材料溶液,以使所述功能材料溶液的表面形成液體尖峰陣列;所述產生系統包括:波生成單元,所述波生成單元用于生成所述聲表面駐波;材料容器,所述材料容器位于所述波生成單元的上方,所述材料容器用于盛放所述功能材料溶液且所述功能材料溶液根據所述聲表面駐波在所述材料容器的開口側形成液體尖峰陣列; 定位系統,所述定位系統用于將目標基板移動至所述功能材料溶液的液體尖峰處,且將所述目標基板的功能區表面陣列與功能材料溶液的液體尖峰陣列對位設置,其中,所述功能材料溶液的液體尖峰與所述目標基板的功能區表面接觸,而在所述目標基板的功能區表面處形成功能材料液滴,且所述功能材料液滴揮發后形成所述功能器件; 其中,所述波生成單元包括: 壓電基底; 設置于所述壓電基底一側表面上的聲學器件和波導層,所述聲學器件用于生成所述聲表面駐波,所述波導層用于將所述聲表面駐波傳輸至位于所述波導層背離所述壓電基底一側的材料容器中,所述聲學器件包括多對叉指換能器。
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