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龍圖騰網(wǎng)獲悉清華大學(xué)申請(qǐng)的專(zhuān)利三維全通孔鋁結(jié)構(gòu)體的制造方法與系統(tǒng)獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115798943B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-09發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：202211423405.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01G11/84；該發(fā)明授權(quán)三維全通孔鋁結(jié)構(gòu)體的制造方法與系統(tǒng)是由騫偉中;崔超婕;魏少鑫;李博凡;張抒婷;于翔;王瑾設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-11-15向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本三維全通孔鋁結(jié)構(gòu)體的制造方法與系統(tǒng)在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明提供一種三維全通孔鋁結(jié)構(gòu)體的制造系統(tǒng)，包括熔鹽電解子系統(tǒng)1、清洗子系統(tǒng)2、聚合物薄膜分解及真空燒結(jié)子系統(tǒng)3和聚合物薄膜傳送子系統(tǒng)4。本發(fā)明通過(guò)聚合物薄膜傳送子系統(tǒng)4使多孔聚合物薄膜在熔鹽電解子系統(tǒng)1中，利用含鋁熔鹽電解析出的原理，在多孔聚合物薄膜表面沉積4?90μm厚的鋁層，形成鋁包覆結(jié)構(gòu)；然后通過(guò)清洗子系統(tǒng)2除去鋁包覆結(jié)構(gòu)表面附著的熔鹽；最后再通過(guò)聚合物薄膜分解及真空燒結(jié)子系統(tǒng)3高溫分解鋁包覆結(jié)構(gòu)中的多孔聚合物薄膜，得到純鋁膜帶，并進(jìn)一步原位實(shí)施高溫真空燒結(jié)處理，使空心結(jié)構(gòu)的純鋁膜帶實(shí)心化，得到最終三維全通孔鋁結(jié)構(gòu)體產(chǎn)品。

本發(fā)明授權(quán)三維全通孔鋁結(jié)構(gòu)體的制造方法與系統(tǒng)在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種三維全通孔鋁結(jié)構(gòu)體的制造系統(tǒng)，其特征在于，所述制造系統(tǒng)包括： 熔鹽電解子系統(tǒng)（1），用于電解含鋁熔鹽，在多孔聚合物薄膜表面沉積鋁層，形成鋁包覆結(jié)構(gòu)； 清洗子系統(tǒng)（2），用于清洗所述鋁包覆結(jié)構(gòu)上附著的熔鹽； 聚合物薄膜分解及真空燒結(jié)子系統(tǒng)（3），用于高溫分解所述鋁包覆結(jié)構(gòu)中的多孔聚合物薄膜，得到純鋁膜帶，以及原位真空燒結(jié)純鋁膜帶，獲得三維全通孔鋁結(jié)構(gòu)體；對(duì)所述純鋁膜帶進(jìn)行真空燒結(jié)的溫度為400-600℃，時(shí)間為0.5-5h，壓力為5-100Pa； 所述聚合物薄膜分解及真空燒結(jié)子系統(tǒng)（3）包括：氣體進(jìn)口（15）、分解尾氣出口（16）和氣體出口（17）； 所述氣體進(jìn)口（15）為所述聚合物薄膜分解及真空燒結(jié)子系統(tǒng)（3）提供流動(dòng)氣體，用于干燥所述鋁包覆結(jié)構(gòu)； 所述分解尾氣出口（16）在所述聚合物薄膜分解及真空燒結(jié)子系統(tǒng)（3）進(jìn)行高溫處理時(shí)，將高溫氣體回流至熔鹽電解子系統(tǒng)（1），為熔鹽電解子系統(tǒng)（1）提供熱能，實(shí)現(xiàn)熱量回收利用； 所述氣體出口（17）在所述聚合物薄膜分解及真空燒結(jié)子系統(tǒng)（3）進(jìn)行原位真空燒結(jié)純鋁膜帶時(shí)，將氣體排出所述聚合物薄膜分解及真空燒結(jié)子系統(tǒng)（3）； 聚合物薄膜傳送子系統(tǒng)（4），用于將多孔聚合物薄膜依次送入熔鹽電解子系統(tǒng)（1）、清洗子系統(tǒng)（2）和聚合物薄膜分解及真空燒結(jié)子系統(tǒng)（3）。

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