合肥微睿光電科技有限公司劉超獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉合肥微睿光電科技有限公司申請的專利一種耐熱性基座氧化膜及其制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN116804284B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202310196317.6,技術領域涉及:C25D11/06;該發明授權一種耐熱性基座氧化膜及其制備方法是由劉超;劉曉剛;李仁杰;李小崗;張雅;王翔設計研發完成,并于2023-02-28向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種耐熱性基座氧化膜及其制備方法在說明書摘要公布了:本發明屬于覆層的電解生產工藝技術領域,涉及一種耐熱性基座氧化膜及其制備方法。針對現有技術中PECVD設備基座上的氧化膜,在生成或再生過程中,氧化膜孔徑和氧化膜微孔密度過大或過小,不均一,導致的氧化膜耐熱性差,易從基座上脫落,影響使用壽命的技術問題,本申請提供一種耐熱性基座氧化膜的制備方法,改善了氧化膜結構,提升氧化膜的柔韌性,使之在持續的升溫降溫過程中減少與母材之間的張應力,制備得到的氧化膜,在高溫沖擊下不易開裂,耐熱性能提升明顯,耐熱沖擊性能明顯增強,滿足使用性能。
本發明授權一種耐熱性基座氧化膜及其制備方法在權利要求書中公布了:1.一種耐熱性基座氧化膜的制備方法,使用基材,包括陽極氧化步驟,所述陽極氧化步驟為將基座置于陽極氧化電解液中,進行直流電陽極氧化,其特征在于: 所述電解液由以下組分及含量組成:5wt%的草酸和1wt%的冰乙酸;工藝溫度為30℃;電流密度為0.8Adm2;所述基材的型號為5052或6061; 所述氧化膜可在450℃下抵抗熱沖擊7次,所述基座為PECVD設備基座; 所述氧化膜的厚度為10~20μm。
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