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龍圖騰網獲悉廣州市艾佛光通科技有限公司申請的專利一種高電學性能體聲波諧振器、制備方法和體聲波濾波器獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119602739B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-09發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411714801.4，技術領域涉及：H03H9/17；該發明授權一種高電學性能體聲波諧振器、制備方法和體聲波濾波器是由張偉軍;李國強;衣新燕設計研發完成，并于2024-11-27向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種高電學性能體聲波諧振器、制備方法和體聲波濾波器在說明書摘要公布了：本申請涉及體聲波諧振器技術領域，具體提供了一種高電學性能體聲波諧振器、制備方法和體聲波濾波器，該方法包括步驟：在第一襯底上依次形成緩沖層、壓電層和圖形化頂電極；在圖形化頂電極外形成盲孔；在圖形化頂電極頂面形成第一互連線和通過填充盲孔在壓電層頂面形成第二互連線；在第一互連線和第二互連線上鍵合第二襯底；將刻蝕組合體倒置，然后對第一襯底進行刻蝕；在凹槽內形成圖形化底電極，然后在第一襯底上貼裝覆膜層；去除第二襯底，然后通過第一互連線和第二互連線將體聲波諧振器固定在封裝基板上；該方法能夠有效地解決體聲波諧振器的薄膜在釋放犧牲層的過程中發生鼓膜或開裂以及體聲波諧振器的部分能量泄漏的問題。

本發明授權一種高電學性能體聲波諧振器、制備方法和體聲波濾波器在權利要求書中公布了：1.一種高電學性能體聲波諧振器制備方法，其特征在于，所述高電學性能體聲波諧振器制備方法包括： S1、在第一襯底上依次形成緩沖層、壓電層和圖形化頂電極，所述圖形化頂電極部分覆蓋所述壓電層； S2、在所述圖形化頂電極外形成貫穿所述壓電層和所述緩沖層且在第一襯底上的深度大于0的盲孔； S3、在所述圖形化頂電極頂面形成第一互連線和通過填充所述盲孔在所述壓電層頂面形成第二互連線，所述第二互連線位于所述圖形化頂電極外； S4、在所述第一互連線和所述第二互連線上鍵合第二襯底，以得到刻蝕組合體，所述第二襯底與所述圖形化頂電極之間存在間隙； S5、將所述刻蝕組合體倒置，然后對所述第一襯底進行刻蝕，以在所述第一襯底上形成使所述緩沖層和所述第二互連線外露的凹槽； S6、在所述凹槽內形成與所述第二互連線連接且頂面高度小于第一襯底的頂面高度的圖形化底電極，然后在所述第一襯底上貼裝覆膜層，以形成體聲波諧振器； S7、去除所述第二襯底，然后通過所述第一互連線和所述第二互連線將所述體聲波諧振器固定在封裝基板上和對所述體聲波諧振器進行塑封。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人廣州市艾佛光通科技有限公司，其通訊地址為：510700 廣東省廣州市黃埔區瑞吉二街49號201房；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。