JSR株式會社樫下幸志獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉JSR株式會社申請的專利液晶元件及其制造方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115443429B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202180029694.X,技術領域涉及:G02F1/1334;該發明授權液晶元件及其制造方法是由樫下幸志;大場佑樹;栗田慎也;植阪裕介;綾部真嗣設計研發完成,并于2021-03-25向國家知識產權局提交的專利申請。
本液晶元件及其制造方法在說明書摘要公布了:提供一種即使在基材上不具有液晶取向膜,透明性及光散射性也高且耐熱性、重復驅動耐性及彎曲后的光學特性也良好的液晶元件及其制造方法。液晶元件包括:第一基材,設置有第一電極;第二基材,設置有第二電極且與第一基材相向配置;以及液晶層,與第一基材及第二基材鄰接配置且使含有液晶及聚合性化合物的液晶組合物硬化而形成。液晶元件中,自第一基材及第二基材中的至少一者剝離液晶層,將剝離了液晶層的基材在己烷中在23℃下浸漬30秒并進行干燥,對干燥后的剝離面側的基材表面通過X射線光電子分光法進行測定時,相對于碳原子、氧原子與硅原子的合計量,硅原子的比例為0.05%以上且10%以下。
本發明授權液晶元件及其制造方法在權利要求書中公布了:1.一種液晶元件,包括: 第一基材,設置有第一電極; 第二基材,設置有第二電極且與所述第一基材相向配置;以及 液晶層,與所述第一基材及所述第二基材鄰接配置且使含有液晶及聚合性化合物的液晶組合物硬化而形成, 所述液晶元件不具有液晶取向膜, 自所述第一基材及所述第二基材中的至少一者剝離所述液晶層,將剝離了所述液晶層的基材在己烷中在23℃下浸漬30秒并進行干燥,對干燥后的剝離面側的基材表面通過X射線光電子分光法進行測定時,相對于碳原子、氧原子與硅原子的合計量,硅原子的比例為0.05%以上且10%以下。
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