塞莫費雪科學(不來梅)有限公司W·巴爾遜獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉塞莫費雪科學(不來梅)有限公司申請的專利制造離子光學裝置的組件的方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114664633B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202111522273.9,技術領域涉及:H01J49/06;該發明授權制造離子光學裝置的組件的方法是由W·巴爾遜設計研發完成,并于2021-12-13向國家知識產權局提交的專利申請。
本制造離子光學裝置的組件的方法在說明書摘要公布了:制造離子光學裝置的組件的方法,組件包括對齊的第一和第二電極組。對第一材料進行機加工以提供經部分機加工的第一電極組,經部分機加工的第一電極組包括附接到第一材料的框架部分的第一電極組。對第二材料進行機加工以提供經部分機加工的第二電極組,經部分機加工的第二電極組包括附接到第二材料的框架部分的第二電極組。通過將經部分機加工的第一和第二電極組對齊來組裝離子光學裝置的組件。在將經部分機加工的第一和第二電極組對齊之后,進一步對經部分機加工的第一電極組進行機加工以將第一電極組與第一材料的框架部分分開,并且進一步對經部分機加工的第二電極組進行機加工以將第二電極組與第二材料的框架部分分開。
本發明授權制造離子光學裝置的組件的方法在權利要求書中公布了:1.一種制造離子光學裝置的組件的方法,所述組件包括對齊的第一電極組和第二電極組,所述方法包括以下步驟: 對第一材料進行機加工以提供經部分機加工的第一電極組,所述經部分機加工的第一電極組包括附接到所述第一材料的框架部分的所述第一電極組; 對第二材料進行機加工以提供經部分機加工的第二電極組,所述經部分機加工的第二電極組包括附接到所述第二材料的框架部分的所述第二電極組; 通過將所述經部分機加工的第一電極組和所述經部分機加工的第二電極組對齊來組裝所述離子光學裝置的所述組件;以及 在將所述經部分機加工的第一電極組和所述經部分機加工的第二電極組對齊之后: 對所述經部分機加工的第一電極組進行進一步機加工以將所述第一電極組與所述第一材料的所述框架部分分開;以及 對所述經部分機加工的第二電極組進行進一步機加工以將所述第二電極組與所述第二材料的所述框架部分分開。
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